c-AlN的生长对AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜力学性能的影响

材料研究学报

2003, Vol. 17

Issue (3): 327-331

论文

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c-AlN的生长对AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜力学性能的影响

胡晓萍; 李戈扬;顾明元

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室

引用本文:

胡晓萍; 李戈扬; 顾明元 . c-AlN的生长对AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜力学性能的影响[J]. 材料研究学报, 2003, 17(3): 327-331.

全文: PDF(716 KB)

摘要: 采用反应磁控溅射制备了具有不同调制周期的AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜，研究了亚稳相立方氮化铝（c-AlN）在纳米多层膜中的生长条件及其对薄膜力学性能的影响。结果表明：在小调制周期下AlN以立方结构存在，并与(Ti,Al)N层形成同结构共格外延生长，使纳米多层膜产生较大的晶格畸变。与此相应，AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜硬度和弹性模量随调制周期的减小呈单调上升的趋势，当调制周期小于8~10 nm时其增速明显增大。在调制周期为1.3 nm时达到最高硬度29.0 GPa和最高弹性模量383.0 GPa。AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜的硬度和弹性模量在小调制周期时的升高与亚稳相c-AlN的产生并和(Ti,Al)N形成共格结构有关。

关键词 ：无机非金属材料, 材料表面与界面, 多层膜

Key words：

收稿日期: 1900-01-01

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