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材料研究学报  1997, Vol. 11 Issue (2): 203-206    
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一种高熔点金属涂层的制备方法
唐宾;何家文;王从曾;徐重
西安交通大学;西安交通大学;太原工业大学;太原工业大学
A NEW FABRICATION METHOD OF HIGH MELTING POINT METAL COATING
TANG Bin; HE Jiawen; WANG Congzen; XU Zhong (Xi'an Jiaotong University) (Taiyuan Polytechnic University)
引用本文:

唐宾;何家文;王从曾;徐重. 一种高熔点金属涂层的制备方法[J]. 材料研究学报, 1997, 11(2): 203-206.
, , , . A NEW FABRICATION METHOD OF HIGH MELTING POINT METAL COATING[J]. Chin J Mater Res, 1997, 11(2): 203-206.

全文: PDF(295 KB)  
摘要: 研制了一种由多个空心阴极并列组合而成的,可直接作为溅射靶的多重空心阴极溅射靶,其溅射输出量可用电压、气压及空心阴极的高度和宽度比控制由W、Mo合金制成的多重空心阴极溅射靶所做的合金涂镀试验表明,这种方法涂层沉积速度快,涂层致密并与基体结合良好,适用于多种金属或其合金的溅射沉积,尤其是高熔点金属的溅射沉积.
关键词 空心阴极溅射镀膜    
Abstract:A new multiple hollow cathode sputtering target, which has a simple structure and a high sputtering rate,was put forward. The sputtering rate can be controlled by changing target voltage, pressure and H. D-1. The result shows that this method has a high d
Key wordshollow cathode sputtering coating
收稿日期: 1997-04-25     
基金资助:国家自然科学基金!19392300-5
1.唐宾,王从曾,苏永安,徐重.中国专利 891037438. 1989年 8月
2.王从曾,唐宾,徐重.金属热处理学报.12(3),43(1991
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