材料研究学报  1993, Vol. 7 Issue (3): 234-239

研究论文 本期目录 | 过刊浏览 |

ZrO_2薄膜的相结构与相稳定性

王英华;李晓萍

清华大学;清华大学

PHASE STRUCTURE AND STABILITY OF ZIRCONIA THIN FILMS

WANG Yinghua LI Xiaoping (Tsinghua University)

王英华;李晓萍. ZrO_2薄膜的相结构与相稳定性[J]. 材料研究学报, 1993, 7(3): 234-239.
, . PHASE STRUCTURE AND STABILITY OF ZIRCONIA THIN FILMS[J]. Chin J Mater Res, 1993, 7(3): 234-239.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(637 KB)   摘要: 采用纯Zr、添Y_2O_3的ZrO_2和添MgO 的ZrO_2为靶材,以射频溅射方法生成ZrO_2薄膜。研究了这三个系列薄膜的物相结构,以及退火和研磨对物相结构的影响。研究表明,ZrO_2薄膜为单斜相,Y-ZrO_2和Mg-ZrO_2薄膜为单斜相和正方相,且以正方相为主。它们的退火规律也各不相同,这与稳定剂的加入与性质有关。同时研磨并未诱导正方相向单斜相的转变。 关键词 ： ZrO_2薄膜,  相结构,  薄膜     Abstract：Zirconia thin films were deposited by r.f.magnetron reactive sputtering methodwith the pure metal Zr,compound Y-ZrO_2 and Mg-ZrO_2 targets.The phase structures of thethree series films were investigated,and the effect of annealing and stressing were studi Key words： zirconia films    phase structure    thin films 收稿日期: 1993-06-25      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 王英华 李晓萍 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1993/V7/I3/234 1 Lee J W,Schlesinger T E,Stamper A K et al.J Appl Phys,1988;64:2629 2 Yamashite T,Chen G L et al.IEEE Trans on Magn,1988;24:2629 3 Kao A S,Hwang C.J Vac Technol,1990;A8(4) :3289 4 Yang M M,Reith M,Lin C J.J Vac Sci Technol,1990;A8(6) :3925 5 Stamper A K,Greeve D W et al.J Appl Phys,1991;70(4) :2040 6 Clausen N.In:Claussen N,R(u|¨)hle M,Heuer A eds.Science and Technology of Zirconia,Advance in CeramicsⅡ,Vol.12,American Ceramic Society,Columbus,Ohio,1984:325 7 Fillit R,Homerin P,Schafer J et al.J Mater Sci,1987;22:3566 8 Sim S M,Strubican V S.J Am Ceram Soc,1987;70(7) :521 9 Garvie R C,Hannink R H,Rascoe R T.Nature,1975;703:258 10 Gupta T K,Bechtold J H et al.J Mater Sci,1977;12:2421m [1] 朱明星, 戴中华. SrSc0.5Nb0.5O3 改性BNT基无铅陶瓷的储能特性研究[J]. 材料研究学报, 2023, 37(3): 228-234. [2] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [3] 朱海勇, 张伟. 锰掺杂和氧化铌种子层对铌酸钾钠薄膜电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(12): 945-950. [4] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [5] 张钧, 彭立静, 王宇, 王晓阳, 王楠, 王美涵. Al/Ti摩尔比对(CrTiAl)N硬质膜相结构和硬度的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 55-61. [6] 李修贤, 邱万奇, 焦东玲, 钟喜春, 刘仲武. α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 8-12. [7] 李刚, 温影, 于中民, 刘囝, 熊梓连. Al含量对CrFeNiAlxSi系高熵合金性能的影响[J]. 材料研究学报, 2021, 35(9): 712-720. [8] 孙丽颖, 钱建华, 赵永芳. AgNWs-TPU/PVDF柔性薄膜电容传感器的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 441-448. [9] 孙茂林, 宫震, 王施文, 尹航, 李瑞武, 张政, 李雨彤, 吴法宇. 氧控In2O3薄膜的光电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(5): 394-400. [10] 张泽灵, 王世琦, 徐邦利, 赵昱皓, 张旭海, 方峰. FeCoNiMoCr高熵合金薄膜电极的电催化析氧性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(3): 193-200. [11] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [12] 宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg3Bi2薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842. [13] 谢明玲, 张广安, 史鑫, 谭稀, 高晓平, 宋玉哲. Ti掺杂MoS2薄膜的抗氧化性和电学性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 59-64. [14] 张大磊, 魏恩泽, 荆赫, 杨留洋, 豆肖辉, 李同跃. 超级铁素体不锈钢表面超疏水结构的制备及其耐腐蚀性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 7-16. [15] 刘芝君, 李之锋, 王春香, 谢光明, 黄庆研, 钟盛文. 四氧化三钴/碳纳米管薄膜的水热合成及其储锂性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 584-590. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed