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材料研究学报  1990, Vol. 4 Issue (3): 273-276    
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非晶硅薄膜表面与非晶须特性
林鸿溢
北京理工大学
PROPERTIES OF SURFACE AND WHISKER-LIKE MICROSTRUCTURES OF AMORPHOUS SILICON
LIN Hongyi(Beijing Institute of Technology)
引用本文:

林鸿溢. 非晶硅薄膜表面与非晶须特性[J]. 材料研究学报, 1990, 4(3): 273-276.
. PROPERTIES OF SURFACE AND WHISKER-LIKE MICROSTRUCTURES OF AMORPHOUS SILICON[J]. Chin J Mater Res, 1990, 4(3): 273-276.

全文: PDF(638 KB)  
摘要: 利用透射电子显微镜(TEM),观测到未见报道的须状微结构,称为非晶须。提出非晶须可能的生长条件是淀积系统中出现大的过饱和气压。X 射线光电子能谱分析表明,非晶硅与其表面SiO_2之间存在化学成分为SiO_x(0
关键词 非晶态硅薄膜表面界面非晶须微结构    
Abstract:The surface,the interface and the microstructures of the undoped hydrogenated amorphoussilicon films by RF plasma chemical vapor deposition are investigated.The whisker-like microstructures(amorphous silicon whisker)are observed by transmission electron m
Key wordsamorphous silicon    film    surface    interface    amorphous silicon whisker    microstructure
收稿日期: 1990-06-25     
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