材料研究学报  1992, Vol. 6 Issue (3): 236-240

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离子束增强反应磁控溅射AIN膜的组织结构及光学特性

王浩;黄荣芳;洪瑞江;吴杰;闻立时

中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所

MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE AIN FILMS DEPOSITED BY ION BEAM ENHANCED REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING

WANG Hao;HUANG Rongfang;HONG Ruijiang;WU Jie;WEN Lishi(Institute of Metal Research;Academia Sinica)

王浩;黄荣芳;洪瑞江;吴杰;闻立时. 离子束增强反应磁控溅射AIN膜的组织结构及光学特性[J]. 材料研究学报, 1992, 6(3): 236-240.
, , , , . MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE AIN FILMS DEPOSITED BY ION BEAM ENHANCED REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING[J]. Chin J Mater Res, 1992, 6(3): 236-240.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(586 KB)   摘要: 对离子束增强反应磁控溅射低温沉积AIN 膜层组织形貌、晶体结构、电子结构及其光学特性进行了研究。结果表明膜层组织均匀,晶粒细小,薄膜AIN 是呈(002)择优取向的密排六方结构。由于Al-N 键的形成,使Al 的2p 轨道电子结合能发生2.6eV 的化学位移。薄膜在可见光区域有很高的透射率,在紫外区域300nm 处有很强的吸收峰,在红外600—800cm~(-1)处有个吸收带,通过计算得到了AIN膜的折射率,禁带宽度和晶格振动力学常数。 关键词 ： 薄膜,  AlN,  磁控溅射     Abstract：Microstructure,crystallography,electron structure and optical properties ofaluminum nitride film deposited by ion beam enhanced reactive magnetron sputtering were stu-died.The results show that the microstructure of the film is uniform and the grain size Key words： thin films    AIN    magnetron sputtering 收稿日期: 1992-06-25      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 王浩 黄荣芳 洪瑞江 吴杰 闻立时 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1992/V6/I3/236 1 Roman Y G,Adriaansen A P M.Thin Solid Films,1989;169:241 2 Hantzpergue J J,Pauleau Y,Remy J C et al.Thin Solid Films,75;75:167 3 Aita C R.J Appl Phys,1982;53(3) :1807 4 Takaoka H,Ishikawa J,Takagi T.Thin Solid Films,1988;157:143 5 Yim W M,Stofko E J,Zanzucchi P J et al.J Appl Phys,1973;44(1) :292 6 Shiosaki T,IEEE Trans,Sonics Ultrason,1982;29(3) :174 7 Duffy M T,Wang C C,Zanzucchi P J.J Eletron Meter,1973;2(2) :359 8 MacMahon R,Affinito J,Parsons R.J Vac Sci Technol,1982;20:376 9 Heavens O S.Thin Film Physics.London Methuen:1970:1 10 Hecht E,Zajac.Optics Cambridge Adison-wesley,MA,1980:1 11 KaKmoto K.Infrared and Raman Spectra of Inorganic and coordination compounds.John Wiley,1978: [1] 闫春良, 郭鹏, 周靖远, 汪爱英. Cu掺杂非晶碳薄膜的电学性能及其载流子输运行为[J]. 材料研究学报, 2023, 37(10): 747-758. [2] 单位摇, 王永利, 李静, 熊良银, 杜晓明, 刘实. 锆合金表面Cr基涂层的耐高温氧化性能[J]. 材料研究学报, 2022, 36(9): 699-705. [3] 张鹏, 黄东, 张福全, 叶崇, 伍孝, 吴晃. 中间相沥青基碳纤维石墨化度对Cf/Al界面损伤的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(8): 579-590. [4] 孟祥东, 甄超, 刘岗, 成会明. CuO纳米阵列结构光阴极的制备及其光电化学分解水的性能[J]. 材料研究学报, 2022, 36(4): 241-249. [5] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [6] 朱海勇, 张伟. 锰掺杂和氧化铌种子层对铌酸钾钠薄膜电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(12): 945-950. [7] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [8] 李修贤, 邱万奇, 焦东玲, 钟喜春, 刘仲武. α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 8-12. [9] 孙丽颖, 钱建华, 赵永芳. AgNWs-TPU/PVDF柔性薄膜电容传感器的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 441-448. [10] 杨雅娜, 陈文革, 薛元琳. 碳纤维表面溅射金属增强铜基复合材料的界面结合[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 467-473. [11] 孙茂林, 宫震, 王施文, 尹航, 李瑞武, 张政, 李雨彤, 吴法宇. 氧控In2O3薄膜的光电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(5): 394-400. [12] 张泽灵, 王世琦, 徐邦利, 赵昱皓, 张旭海, 方峰. FeCoNiMoCr高熵合金薄膜电极的电催化析氧性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(3): 193-200. [13] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [14] 宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg3Bi2薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842. [15] 谢明玲, 张广安, 史鑫, 谭稀, 高晓平, 宋玉哲. Ti掺杂MoS2薄膜的抗氧化性和电学性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 59-64. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed