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材料研究学报  2000, Vol. 14 Issue (5): 538-542    
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ZnO:Al薄膜的组织结构与性能
裴志亮; 谭明晖; 杜昊; 陈猛; 孙超; 黄荣芳; 闻立时
中国科学院金属研究所
引用本文:

裴志亮; 谭明晖; 杜昊; 陈猛; 孙超; 黄荣芳; 闻立时 . ZnO:Al薄膜的组织结构与性能[J]. 材料研究学报, 2000, 14(5): 538-542.

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摘要: 用直流磁控反应溅射合金靶制备了ZnO薄膜, 研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响. 衬底温度升高能改善薄膜的电学特性, 其原因是薄膜晶粒尺寸的增大.温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动,但对高透射区(450-850nm)的透射率影响不大.
关键词 ZnO薄膜温度光学吸收边透射率     
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
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