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材料研究学报  1999, Vol. 13 Issue (3): 255-260    
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高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备
王合英(1); 马振伟(2); 姜恩永(3); 何元金(1); 陈宏(1); 马兴坤(1)
1.清华大学; 2.清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室; 3.天津大学
引用本文:

王合英; 马振伟; 姜恩永; 何元金; 陈宏; 马兴坤 . 高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备[J]. 材料研究学报, 1999, 13(3): 255-260.

全文: PDF(1128 KB)  
摘要: 制备条件对FeCoN薄膜的结构与磁性有重要的影响. 选择合适的基片温度和退火方式, 可以用溅射方法制备出具有高饱和磁化强度的FeCoN薄膜.
关键词 FeCoN薄膜结构磁性退火    
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
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