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高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备 |
王合英(1); 马振伟(2); 姜恩永(3); 何元金(1); 陈宏(1); 马兴坤(1) |
1.清华大学; 2.清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室; 3.天津大学 |
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引用本文:
王合英; 马振伟; 姜恩永; 何元金; 陈宏; 马兴坤 . 高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备[J]. 材料研究学报, 1999, 13(3): 255-260.
1 H.Jack, Proc.RoyRoc.Lond0n Ser., A195, 34.(1948) 2 H.Jack, Proc.Roy.Roc.London Ser., A208, 216(1951) 3 H.Jack, Proc.Roy.Roc.London Ser., A208, 200(1951) 4 M.Komuro, Y.Kozono, M.Hanazono, Y.Sugita, J.Magn.Soc., 13, 301(1989) 5 B.Viala, M.K.Minor, J.A.Banard, J.Appl.Phys., 80, 3941(1996) 6 V.R.Inturi, J.A.Barnard, J.Appl.Phys., 79, 5904(1996) 7 H.Zhang, J.A.Bain, M.H.Kryder, IEEE nans. Magn., 32, 4541(1996) 8 A.Makino, Y. HayakaWa, IEEE nans. Magn., 31, 3874(1995) 9 D.Wang, W.D.D0yle, IEEE Thans. Magn., 30, 4032(1994) 10王合英,马振伟,姜恩永,何元金,金属学报,34(10),1099(1998) 11 T.K.Kim, M.Takahashi, Appl.Phys.Lett., 20, 492(1972) 12 M.Komuro, Y.K0zono, M.Hanazono, Y.Sugita, J.Appl.Phys., 67, 5126(1990) |
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