激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构

材料研究学报

1998, Vol. 12

Issue (6): 663-664

研究论文

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激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构

张炳春;李梅;王亚庆;冯钟潮

中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所

THE COMPOSITION AND MICROSTRUCTURE OF THE Ti(C,N) FILMS PRODUCED BY LASER CHEMICAL VAPOUR GROWTH

ZHANG Bingchun;LI Mei;WANG Yaqing;FENG Zhongchao(Institute of Metal Research; The Chinese Academy of Sciences; Shenyang 110015 )

引用本文:

张炳春;李梅;王亚庆;冯钟潮. 激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构[J]. 材料研究学报, 1998, 12(6): 663-664.
, , , . THE COMPOSITION AND MICROSTRUCTURE OF THE Ti(C,N) FILMS PRODUCED BY LASER CHEMICAL VAPOUR GROWTH[J]. Chin J Mater Res, 1998, 12(6): 663-664.

全文: PDF(763 KB)

摘要: 运用XRD、EPMA、TEM等手段分析在Ti—6Al—4V基材上用激光化学气相反应生长的Ti(C,N)薄膜的成分、结构、显微组织可在基材表面形成大面积均匀的Ti(C,N)膜层,为无明显择优取向的等轴纳米晶,其中有少量的Ti2N相,且Al、V含量低于基材。

关键词 ：激光, 化学气相反应生长薄膜, Ti(C,N)

Abstract：The composition and microstructure of Ti(C,N) films, which were produced by laser chemical deposition on Ti-6Al-4V substrate, were studied by the combined techniques of XRD, EPMA,TEM. The large area, uniform films which were mainly Ti(C,N) with small amou

Key words： laser chemical vapour growth of thin film Ti(C N)

收稿日期: 1998-12-25

基金资助:863计划新材料领域资助

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