材料研究学报  1997, Vol. 11 Issue (2): 212-215

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掺钇非晶硅的电特性

程兴奎

山东大学

ELECTRONIC PROPERTIS OF Y-DOPED AMORPHOUS SILICON

CHENG Xingkui (Shanking University)

程兴奎. 掺钇非晶硅的电特性[J]. 材料研究学报, 1997, 11(2): 212-215.
. ELECTRONIC PROPERTIS OF Y-DOPED AMORPHOUS SILICON[J]. Chin J Mater Res, 1997, 11(2): 212-215.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(322 KB)   摘要: 由射频溅射技术将稀土元素钇(Y)掺入非晶硅,制备出一种新的N型半导体材料.掺Y低于9%(原子百分数,下同)时,在测量温度范围内1ogσ～T~-1呈线性关系;当掺Y高于13%时,logσ~T-关系可拟合成有一个拐点的两条直线;当掺Y达～30%时,发生由半导体向金属的转变 关键词 ： 溅射,  掺Y非晶硅,  电特性     Abstract：A new n-type amorphous silicon material, which is prepared by doping with Yttrium by r.f.sputtering, has been obtained. Temperature dependence of conductivity for several samlpes containing different concentration of Y shows that, as the concentration of Key words： sputtering Y-doped amorphoussilicon eletronic properties 收稿日期: 1997-04-25      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 程兴奎 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1997/V11/I2/212 1.D.A.Anderson, Paul William, Phil Mag. B45(1),1(1982) 2.B.R.Coles,A.D Canline著张增顺译,固体的电子结构.(高等教育出版社,北京,1985)p.11 3.N.F.Mott, W.D.Twose. Adv.Phys. 10(38)107(1961) 4.N.F.Mott, Phil. Mag. 22(175),7(1970) 5.P.G.Lecomber, W.E.Spear, D.Allan,1.Non—Cryst Solids 32(1—3),1(1979)- [1] 闫春良, 郭鹏, 周靖远, 汪爱英. Cu掺杂非晶碳薄膜的电学性能及其载流子输运行为[J]. 材料研究学报, 2023, 37(10): 747-758. [2] 单位摇, 王永利, 李静, 熊良银, 杜晓明, 刘实. 锆合金表面Cr基涂层的耐高温氧化性能[J]. 材料研究学报, 2022, 36(9): 699-705. [3] 张鹏, 黄东, 张福全, 叶崇, 伍孝, 吴晃. 中间相沥青基碳纤维石墨化度对Cf/Al界面损伤的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(8): 579-590. [4] 孟祥东, 甄超, 刘岗, 成会明. CuO纳米阵列结构光阴极的制备及其光电化学分解水的性能[J]. 材料研究学报, 2022, 36(4): 241-249. [5] 胡瑞航, 杨贞, 雷齐俊, 李昕洋, 董子宇, 张晓彤, 范红玉, 牛金海. 氦离子辐照对钨纳米丝稳定性的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 850-854. [6] 李修贤, 邱万奇, 焦东玲, 钟喜春, 刘仲武. α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 8-12. [7] 杨雅娜, 陈文革, 薛元琳. 碳纤维表面溅射金属增强铜基复合材料的界面结合[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 467-473. [8] 孙茂林, 宫震, 王施文, 尹航, 李瑞武, 张政, 李雨彤, 吴法宇. 氧控In2O3薄膜的光电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(5): 394-400. [9] 张泽灵, 王世琦, 徐邦利, 赵昱皓, 张旭海, 方峰. FeCoNiMoCr高熵合金薄膜电极的电催化析氧性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(3): 193-200. [10] 宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg3Bi2薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842. [11] 谢明玲, 张广安, 史鑫, 谭稀, 高晓平, 宋玉哲. Ti掺杂MoS2薄膜的抗氧化性和电学性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 59-64. [12] 谭稀, 宋玉哲, 史鑫, 强进, 魏廷轩, 卢启海. 自旋阀多层膜磁化翻转场的调控和磁电阻特性[J]. 材料研究学报, 2020, 34(4): 272-276. [13] 王世琦,霍文燚,徐正超,张旭海,周雪峰,方峰. 钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜的制备及其光催化还原性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(3): 176-182. [14] 刘晓东,谈淑咏,霍文燚,张旭海,邵起越,方峰. 氮流量比对磁控溅射(CoCrFeNi)Nx高熵合金薄膜的组织和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2019, 33(3): 185-190. [15] 王强, 郝瑞亭, 赵其琛, 刘思佳. 多周期分层溅射硫化物靶制备铜锌锡硫薄膜太阳电池[J]. 材料研究学报, 2018, 32(6): 409-414. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed