溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响

材料研究学报

1996, Vol. 10

Issue (5): 512-516

研究论文

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溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响

周延春

中国科学院金属研究所

EFFECT OF BATH TEMPERATURE ON THE PHASE COMPOSITION AND MICROSTRUCTURE OF GALVANOSTATIC ELECTRODEPOSITED CUPROUS OXIDE FILMS

ZHOU Yanchun (Institute of Metal Research;Chinese Academy of Sciences)SWITZER Jay(University of Missouri-Rolla)

引用本文:

周延春. 溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响[J]. 材料研究学报, 1996, 10(5): 512-516.
. EFFECT OF BATH TEMPERATURE ON THE PHASE COMPOSITION AND MICROSTRUCTURE OF GALVANOSTATIC ELECTRODEPOSITED CUPROUS OXIDE FILMS[J]. Chin J Mater Res, 1996, 10(5): 512-516.

全文: PDF(1356 KB)

摘要: 用电化学方法在不锈钢基体上沉积了多晶Cu2O薄膜并用X射线衍射和扫描电镜进行了分析.研究了溶液温度对薄膜相组成、晶粒尺寸和择优取向的影响当溶液的pH=9、温度低于50℃时得到的是Cu2O/Cu复相薄膜,纯Cu2O薄膜可在溶液温度高于50℃时获得纯Cu2O薄膜具有(100)择优取向实验发现薄膜的晶粒尺寸随溶液温度的增加从0.12μm增加到0.65μm。

关键词 ： Cu_2O, 电化学沉积, 薄膜

Abstract：Polycrystalline Cu2O films were galvanostatic electrodeposited onto 430 stainless steel substrate and were characterized by X-ray diffraction and scanning electron microscopy. The effect of bath temperature on the phase composition, grain size, and surfac

Key words： Cu_2O; electrochemical deposition; film

收稿日期: 1996-10-25

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