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材料研究学报  1996, Vol. 10 Issue (1): 73-76    
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Sn—SnO_x薄膜的组织结构及湿敏性
严百平;朱秉升;刘道新
西安理工大学;西安交通大学;西北工业大学
ORGANIZATION FORM AND HUMIDITY SENSITIVITY OF Sn-SnO_x THIN FILM
YAN Baiping; ZHU Bingsheng(Xi'an University of Technology) (Xi'an Jiaotong University)LIU Daoxin(The Northwestern Polytechnical University)
引用本文:

严百平;朱秉升;刘道新. Sn—SnO_x薄膜的组织结构及湿敏性[J]. 材料研究学报, 1996, 10(1): 73-76.
, , . ORGANIZATION FORM AND HUMIDITY SENSITIVITY OF Sn-SnO_x THIN FILM[J]. Chin J Mater Res, 1996, 10(1): 73-76.

全文: PDF(1167 KB)  
摘要: 报道了一种制备Sn—SnOx湿敏薄膜的新工艺(VETO).首先在1mPa的真空下蒸发纯金属Sn质量分数999mg·g-1,衬底(Al2O3陶瓷基片)温度控制在150~250℃;蒸发的Sn膜在空气中缓慢氧化,即可获得湿度敏感的Sn—SnOx薄膜.利用XRD和SEM分析了膜的晶体结构和表面形貌环境湿度RH从11%变到97%肘,膜阻抗变化约三个量级,膜电导是电子电导和离子电导的混合.在低温区电子电导是主要的,在高温区离子电导占优势.
关键词 蒸发热氧化Sn—SnO_x薄膜湿敏    
Abstract:A new method (VETO) to prepare humidity sensitive film of Sn-SnOx has been reported.Firstly, pure tin (mass fraction 999mg/g) was evaporated on A12O3 ceramic substrates kept at 150~250℃in a pressure of 1 mPa. The humidity sensitive films could be got afte
Key words evaporation thermal oxidation Sn-SnOx thin films humidity sensitivity
收稿日期: 1996-02-25     
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