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材料研究学报  1994, Vol. 8 Issue (4): 319-321    
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NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜的研究
陈斌;陈非霞;崔立山;杨大智;朱英臣
大连理工大学三束材料改性国家重点联合实验室;大连大学
STUDY ON SURFACE ISOLATION FILM OF NiTi SHAPE MEMORY ALLOY
CHEN Bin; CHEN Feixia; CUI Lishan; YANG Dazhi (Dalian University of Technology)ZHU Yingchen (Dalian University)
引用本文:

陈斌;陈非霞;崔立山;杨大智;朱英臣. NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜的研究[J]. 材料研究学报, 1994, 8(4): 319-321.
, , , , . STUDY ON SURFACE ISOLATION FILM OF NiTi SHAPE MEMORY ALLOY[J]. Chin J Mater Res, 1994, 8(4): 319-321.

全文: PDF(953 KB)  
摘要: 用三极反应溅射离子镀法在NiTi形状记忆合金基片上镀制TaN膜,并在600℃干燥空气中氧化1h,形成氧化膜.研究了氧化后的TaN膜的性能及其成分和结构,结果表明:膜完全氧化成TaO.Ta,N,O等在膜中分布比较均匀,它的韧性良好,与基体结合强度高,绝缘性良好;膜-基体间约有40nm的离子束混合区.
关键词 NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜    
Abstract:TaN film was deposited on substrate of NiTi shape memory alloy by triode sputter ion plate.TaN film oxidized was formed at 600℃ for 1h under dry atmosphere. The properties, composition and structure of TaN film oxidized are studied.The result show that th
Key wordsNiTi shape memory alloy    surface modification    isolation film
收稿日期: 1994-08-25     
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