材料研究学报  1993, Vol. 7 Issue (6): 521-525

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离子束辅助沉积制备多晶Al_2O_3薄膜

王晨;杨杰;范玉殿;陶琨

清华大学材料科学与工程系;北京市100084;清华大学;清华大学;清华大学

POLYCRYSTALLINE Al_2O_3 FILM PREPARED BY IBAD

WANG Chen;YANG Jie;FAN Yudian;TAO Kun(Tsinghua University)

王晨;杨杰;范玉殿;陶琨. 离子束辅助沉积制备多晶Al_2O_3薄膜[J]. 材料研究学报, 1993, 7(6): 521-525.
, , , . POLYCRYSTALLINE Al_2O_3 FILM PREPARED BY IBAD[J]. Chin J Mater Res, 1993, 7(6): 521-525.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(1257 KB)   摘要: 利用电子枪蒸镀Al_2O_3,同时辅以Ar 离子轰击的离子束辅助沉积方法(IBAD)制备Al_2O_3薄膜,并与单纯电子枪蒸镀方法(PVD)制备的薄膜进行了结构和表面形貌的比较。IBAD 法可以得到结构均匀致密的γ-Al_2O_3晶态薄膜,而PVD 方法仅能得到非晶态疏松的结构。分析结果表明,薄膜沉积过程中,提高离子轰击能量和增加基片加热温度在一定程度上具有相同的效果。 关键词 ： 离子束辅助沉积,  氧化铝,  薄膜     Abstract：Alumina films were prepared by electron beam evaperation from α-Al_2O_3 with10 keV or 20 keV argon ion bombardment.The temperature of substrates was maintained atroom temperature(RT)or 300℃.The structure and topography were investigated by XRD,XPS,TEM and Key words： ion beam assisted deposition    γ-Al_2O_3    thin film 收稿日期: 1993-12-25      基金资助:国家自然科学基金 69391200 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 王晨 杨杰 范玉殿 陶琨 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1993/V7/I6/521 1 陈志,金懋昌.薄膜科学与技术,1990;3(1) :52 2 Ohira S,Iwaki M.Nucl Instr and Meth,1990;B46:413 3 Ohira S,Iwaki M.Mater Sci Eng,1989;A116:153 4 Prabhawalkar P D.Radiat Eff,1986;99:143 5 Smit M K,Acket G A,Vander Laan C J.Thin Solid Films,1986;138:171 6 Arnold S M,Cold B E.Thin Solid Films,1988;165:1 7 Netterfield R P,Muller K H,Mckenzie D R et al.J Appl Phys,1988;63:760 8 王晨,杨杰,陶琨等,薄膜科学与技术,1992;4:35 9 Edited by Behrisch R,Sputting by Particle Bombardment Ⅱ,Springer Verlag,Berlin,1983;49 10 Musket R G,Brown D W,Pinizzotto R F.Appl Phys Lett,1986;49:379 11 李恒德,肖纪美主编,材料的表面与界面,北京:清华大学出版社,1991:61u [1] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [2] 朱海勇, 张伟. 锰掺杂和氧化铌种子层对铌酸钾钠薄膜电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(12): 945-950. [3] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [4] 李修贤, 邱万奇, 焦东玲, 钟喜春, 刘仲武. α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 8-12. [5] 孙丽颖, 钱建华, 赵永芳. AgNWs-TPU/PVDF柔性薄膜电容传感器的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 441-448. [6] 孙茂林, 宫震, 王施文, 尹航, 李瑞武, 张政, 李雨彤, 吴法宇. 氧控In2O3薄膜的光电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(5): 394-400. [7] 张泽灵, 王世琦, 徐邦利, 赵昱皓, 张旭海, 方峰. FeCoNiMoCr高熵合金薄膜电极的电催化析氧性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(3): 193-200. [8] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [9] 宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg3Bi2薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842. [10] 谢明玲, 张广安, 史鑫, 谭稀, 高晓平, 宋玉哲. Ti掺杂MoS2薄膜的抗氧化性和电学性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 59-64. [11] 张大磊, 魏恩泽, 荆赫, 杨留洋, 豆肖辉, 李同跃. 超级铁素体不锈钢表面超疏水结构的制备及其耐腐蚀性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 7-16. [12] 刘芝君, 李之锋, 王春香, 谢光明, 黄庆研, 钟盛文. 四氧化三钴/碳纳米管薄膜的水热合成及其储锂性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 584-590. [13] 李贵鹏, 宋贵宏, 胡方, 杜昊, 尹荔松. 溅射沉积掺Ag的SnSe薄膜的微结构和热电性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 561-568. [14] 王世琦,霍文燚,徐正超,张旭海,周雪峰,方峰. 钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜的制备及其光催化还原性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(3): 176-182. [15] 王志虎,张菊梅,白力静,张国君. 水热处理对AZ31镁合金微弧氧化陶瓷层组织结构及耐蚀性的影响[J]. 材料研究学报, 2020, 34(3): 183-190. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed