|
2009年, 第23卷, 第6期 刊出日期:2009-12-25
|
上一期
下一期 |
|
|
|
衬底偏压对线性离子束DLC膜微结构和物性的影响
代伟 吴国松 孙丽丽 汪爱英
材料研究学报. 2009, 23 (6): 598-603.
采用一种新型线性离子束PVD技术制备出大面积类金刚石薄膜(DLC膜), 研究了衬底负偏压对薄膜微结构和物性的影响. 结果表明: 制备出的类金刚石薄膜在300 mm × 100 mm 范围内纵向厚度均方差约10--12 nm, 横向薄膜厚度均方差约2--4 nm. 随着衬底偏压的提高, 薄膜中sp3键的含量先增加后减小, 在衬底偏压为-100 V时sp$^{3}$键的含量最大; DLC膜的残余应力、硬度和弹性模量与sp3键的含量呈近似线性的关系, 在衬底偏压为-100 V时其最大值分别为3.1 GPa、26 GPa和230 GPa. DLC薄膜的摩擦学性能与薄膜中sp3碳杂化键的含量密切相关, 但是受衬底偏压的影响不大, 其摩擦系数大多小于0.25. 偏压对磨损的影响很大, 在偏压比较低(0− -200 V)时, 薄膜的磨损率约为10-8 mm3/N ?m, 偏压升高到300 V磨损率急剧提高到10-7 mm3/N ? m.
References |
Related Articles |
Metrics
|
|
AZ91D镁合金热处理与微弧氧化的交互作用
马颖 张洪锋 郝远 陈体军 李元东 高唯
材料研究学报. 2009, 23 (6): 656-662.
随着AZ91D镁合金微弧氧化反应的进行, 膜层逐渐增厚, 膜层表面的喷射孔洞和 喷射沉积物粗大化, 膜层表面粗糙度增大. 微弧氧化反应时膜层内部的应力集中会使膜层萌生微裂纹. 对基体进行固溶处理后可以改善其微弧氧化膜层中微裂纹的数量和形态以及膜层表面的粗糙度, 并能提高微弧氧化膜层的生长速率, 同时降低微弧氧化过程的能耗. 时效处理会使微弧氧化膜层中的残余应力得以释放, 微弧氧化膜的形貌没有发生明显改变, 即膜层表面的微裂纹在数量和形态上仍好于未经热处理基体膜层. 微弧氧化处理不会引起 基体组织的显著变化. 在硅酸盐溶液体系中,
AZ91D镁合金表面参与微弧氧化反应的Al比 Mg少得多, 同时还伴随着一个溶液中的Si向镁合金基体内部渗透的过程.
References |
Related Articles |
Metrics
|
|