材料研究学报  1990, Vol. 4 Issue (6): 530-533

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电化学腐蚀自停止制备Si膜的新技术

张佐兰

东南大学

NOVEL TECHNIQUE OF PROCESSING SILICON MEMBRANE FOR ELECTROCHEMICAL ETCH-STOP

ZHANG Zuolan(Southeast University)

张佐兰. 电化学腐蚀自停止制备Si膜的新技术[J]. 材料研究学报, 1990, 4(6): 530-533.
. NOVEL TECHNIQUE OF PROCESSING SILICON MEMBRANE FOR ELECTROCHEMICAL ETCH-STOP[J]. Chin J Mater Res, 1990, 4(6): 530-533.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(279 KB)   摘要: 本文介绍高精度控制Si 膜厚度的电化学腐蚀自停止新技术。讨论光照和电极欧姆接触等对腐蚀特性的影响,以及所得Si 膜的质量。 关键词 ： 电化学腐蚀,  腐蚀自停止,  薄膜,  sol材料     Abstract：Novel technique of electrochemical etch-stop for high-precision thicknesscontrol of silicon membrane was presented in this paper.The influences of light irradiationand ohm contact of electrode on etch characterization were discussed.Quality of the silicon Key words： electrochemical etch    etch-stop    membrane    sol material 收稿日期: 1990-12-25      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 张佐兰 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1990/V4/I6/530 1 Bean K E.IEEE Transactions on Electron Devices,1978;25(10) :1185 2 Palik E D et al.J Electrochem Soc,1982;129(9) :2051 3 Kloeck B et al.IEEE Transactions on Electron Devices,1989;36(4) :663 [1] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [2] 朱海勇, 张伟. 锰掺杂和氧化铌种子层对铌酸钾钠薄膜电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(12): 945-950. [3] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [4] 李修贤, 邱万奇, 焦东玲, 钟喜春, 刘仲武. α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 8-12. [5] 王根, 李新梅, 卢彩彬, 王松臣, 柴程. CoCuFeNiTi高熵合金涂层的制备和性能研究[J]. 材料研究学报, 2021, 35(8): 561-571. [6] 孙丽颖, 钱建华, 赵永芳. AgNWs-TPU/PVDF柔性薄膜电容传感器的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 441-448. [7] 孙茂林, 宫震, 王施文, 尹航, 李瑞武, 张政, 李雨彤, 吴法宇. 氧控In2O3薄膜的光电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(5): 394-400. [8] 张泽灵, 王世琦, 徐邦利, 赵昱皓, 张旭海, 方峰. FeCoNiMoCr高熵合金薄膜电极的电催化析氧性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(3): 193-200. [9] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [10] 宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg3Bi2薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842. [11] 谢明玲, 张广安, 史鑫, 谭稀, 高晓平, 宋玉哲. Ti掺杂MoS2薄膜的抗氧化性和电学性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 59-64. [12] 张大磊, 魏恩泽, 荆赫, 杨留洋, 豆肖辉, 李同跃. 超级铁素体不锈钢表面超疏水结构的制备及其耐腐蚀性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 7-16. [13] 刘芝君, 李之锋, 王春香, 谢光明, 黄庆研, 钟盛文. 四氧化三钴/碳纳米管薄膜的水热合成及其储锂性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 584-590. [14] 李贵鹏, 宋贵宏, 胡方, 杜昊, 尹荔松. 溅射沉积掺Ag的SnSe薄膜的微结构和热电性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 561-568. [15] 王世琦,霍文燚,徐正超,张旭海,周雪峰,方峰. 钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜的制备及其光催化还原性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(3): 176-182. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed