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材料研究学报  1992, Vol. 6 Issue (4): 315-319    
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双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析
王维洁;王天民;韩培刚;罗崇泰;黄良甫;刘定权
兰州大学;兰州大学;兰州大学;中国空间技术研究院兰州物理研究所;中国空间技术研究院兰州物理研究所;中国空间技术研究院兰州物理研究所
CHARACTERIZATION OF DLC FILMS PREPARED BY DUAL-ION BEAM SPUTTERING DEPOSITION
WANG Weijie;WANG Tianmin;HAN Peigang(Lanzhou University)LUO Chongtai;HUANG Liangfu;LIU Dingquan(Physics Research Institute of Lanzhou;Chinese A cademy of Space Technology)
引用本文:

王维洁;王天民;韩培刚;罗崇泰;黄良甫;刘定权. 双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析[J]. 材料研究学报, 1992, 6(4): 315-319.
, , , , , . CHARACTERIZATION OF DLC FILMS PREPARED BY DUAL-ION BEAM SPUTTERING DEPOSITION[J]. Chin J Mater Res, 1992, 6(4): 315-319.

全文: PDF(427 KB)  
摘要: 用双离子束溅射淀积法,在轰击源含不同CH_4流量比的条件下,于玻璃和Si 基片上淀积了DLC 薄膜。用多种手段对所制备的膜进行了结构表征和性能分析。结果表明,轰击源中CH_4流量比对DLC 膜的结构、形貌及其光、电性能有重要的影响。分析了影响机制,探讨了DLC 膜的生长机理。
关键词 双离子束溅射淀积DLC膜薄膜生长结构性能    
Abstract:Using dual-ion beam sputtering deposition method,DLC films were depositedon glass and silicon substrate under different CH_4 flow ratios(CH_4/(CH_4+Ar)from 0% to100%)in bombarding ion source.The structures and the properties of the films were systemati-ca
Key wordsDual-ion beam sputtering deposition    DLC films    thin film growth    structure    properties
收稿日期: 1992-08-25     
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