材料研究学报  1993, Vol. 7 Issue (5): 380-384

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NiFe和NiFe/Cr/NiFe薄膜的磁电阻特性与膜厚关系

张秀成;周世昌

华中理工大学;华中理工大学

DEPENDENCE OF MAGNETORESISTANCE ON THICKNESS FOR NiFe AND NiFe/Cr/NiFe FILMS

ZHANG Xiucheng ZHOU Shichang (Huazhong University of Science and Technology)

张秀成;周世昌. NiFe和NiFe/Cr/NiFe薄膜的磁电阻特性与膜厚关系[J]. 材料研究学报, 1993, 7(5): 380-384.
, . DEPENDENCE OF MAGNETORESISTANCE ON THICKNESS FOR NiFe AND NiFe/Cr/NiFe FILMS[J]. Chin J Mater Res, 1993, 7(5): 380-384.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(369 KB)   摘要: 本文研究了采用离子束溅射技术制备的NiFe 薄膜及层状结构NiFe/Cr/NiFe 薄膜的磁电阻特性与膜厚的关系。用四探针法测量薄膜的磁电阻。由实验结果得到磁电阻特性与膜厚及Cr 夹层厚度的关系。分析了NiFe/Cr/NiFe 膜中两层NiFe 膜之间存在反铁磁交换耦合时,磁电阻效应显著增强的现象,NiFe/Cr/NiFe 膜各向异性磁电阻系数△ρ/ρ_(av)达5.1%。 关键词 ： Fe-Ni 合金,  薄膜,  磁电阻     Abstract：Magnetoresistivities of NiFe alloy films and NiFe/Cr/NiFe multilayer filmswere mnvestigated in this paper.Samples were prepared by means of ion-beam sputtering.Magnetoresistance is measured with four-probe.The dependance of magnetoresistance on filmthickn Key words： NiFe alloy    film    magnetoresistance 收稿日期: 1993-10-25      基金资助:国家自然科学基金,58971061 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 张秀成 周世昌 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1993/V7/I5/380 1 Mcquire T R,Potter R I.IEEE on Mag,1975;11(4) :1018 2 Thompson D A,Romankiw L I,Mayadas A F.IEEE on Mag 1975;11(4) :1039 3 Suyama H et al.IEEE on Mag 1988;24(6) :2612 4 Katayama T,Nishihara Y.J Appl Phys,1987;61(8) :4329 5 William C et al.IEEE on Mag 1988;24(6) :2609 6 Miyazaki T,Ajma T,Sato F.J Magn Magn Mater,1989;81:86 7 Grunberg P,Schreiber R,Pang Y et al.Phys Rev Lett,1986;57(19) :2442 8 Vohl M,Barnas J,Grunberg P.Phys Rev B,1989;39(16) :12003 9 Binash G,Zinn W.Phys Rev B,1989;39(7) :4828 10 Donath M,Scholl D,Mauri D et al.Phys Rev B,1991;43(16) :13104| [1] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [2] 朱海勇, 张伟. 锰掺杂和氧化铌种子层对铌酸钾钠薄膜电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(12): 945-950. [3] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [4] 李修贤, 邱万奇, 焦东玲, 钟喜春, 刘仲武. α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J]. 材料研究学报, 2022, 36(1): 8-12. [5] 孙丽颖, 钱建华, 赵永芳. AgNWs-TPU/PVDF柔性薄膜电容传感器的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(6): 441-448. [6] 孙茂林, 宫震, 王施文, 尹航, 李瑞武, 张政, 李雨彤, 吴法宇. 氧控In2O3薄膜的光电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(5): 394-400. [7] 张泽灵, 王世琦, 徐邦利, 赵昱皓, 张旭海, 方峰. FeCoNiMoCr高熵合金薄膜电极的电催化析氧性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(3): 193-200. [8] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [9] 宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg3Bi2薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842. [10] 谢明玲, 张广安, 史鑫, 谭稀, 高晓平, 宋玉哲. Ti掺杂MoS2薄膜的抗氧化性和电学性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 59-64. [11] 张大磊, 魏恩泽, 荆赫, 杨留洋, 豆肖辉, 李同跃. 超级铁素体不锈钢表面超疏水结构的制备及其耐腐蚀性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(1): 7-16. [12] 刘芝君, 李之锋, 王春香, 谢光明, 黄庆研, 钟盛文. 四氧化三钴/碳纳米管薄膜的水热合成及其储锂性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 584-590. [13] 李贵鹏, 宋贵宏, 胡方, 杜昊, 尹荔松. 溅射沉积掺Ag的SnSe薄膜的微结构和热电性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 561-568. [14] 谭稀, 宋玉哲, 史鑫, 强进, 魏廷轩, 卢启海. 自旋阀多层膜磁化翻转场的调控和磁电阻特性[J]. 材料研究学报, 2020, 34(4): 272-276. [15] 王世琦,霍文燚,徐正超,张旭海,周雪峰,方峰. 钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜的制备及其光催化还原性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(3): 176-182. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed