激光低温沉积金刚石膜

材料研究学报

1996, Vol. 10

Issue (5): 521-524

研究论文

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激光低温沉积金刚石膜

冯钟潮;张炳春;赵岩;王亚庆

中国科学院金属研究所

LOW-TEMPERATURE DEPOSITION OF DIAMOND FILM BY LASER CVD

FENG Zhongchao; ZHANG Bingchun;ZHAO Yan;WANG Yaqing(Institute of Metal Research; Chinese Academy of Sciences)

引用本文:

冯钟潮;张炳春;赵岩;王亚庆. 激光低温沉积金刚石膜[J]. 材料研究学报, 1996, 10(5): 521-524.
, , , . LOW-TEMPERATURE DEPOSITION OF DIAMOND FILM BY LASER CVD[J]. Chin J Mater Res, 1996, 10(5): 521-524.

全文: PDF(2201 KB)

摘要: 用XeCl紫外与CO2红外复合激光化学气相沉积方法,在340℃硅衬底上沉积成高纯金刚石膜。

关键词 ：金刚石, 激光, 化学气相沉积, 低温

Abstract：Diamond films have been synthesized by LCVD through combined effect of ultraviolet XeCl laser and infrared CO2 laser. The substrates are Si wafers. A special apparatus has been developed. The deposition conditions have been studied. Raman spectra of the f

Key words： diamond; laser; chemical vapor deposition; low temperature

收稿日期: 1996-10-25

基金资助:国家自然科学基金

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