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材料研究学报  2002, Vol. 16 Issue (6): 600-604    
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Fe-Ni-N薄膜的结构及磁性
诸葛兰剑; 姚伟国; 吴雪梅
苏州大学
引用本文:

诸葛兰剑; 姚伟国; 吴雪梅 . Fe-Ni-N薄膜的结构及磁性[J]. 材料研究学报, 2002, 16(6): 600-604.

全文: PDF(509 KB)  
摘要: 用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜,研究了Ni含量、主源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构、磁性及热稳定性的影响,选择合适的工艺条件,可制得在(100)面方向有100%晶粒取向度的单一γ’-(Fe,Ni)4N相。Ni含量为6.7 %(摩尔分数)的Fe-Ni-N薄膜具有较好的软磁性能,其饱和磁化强度MS为2.04 T,矫顽力HC为0.68 kA/m。但是随着Ni含量的提高,Fe-Ni-N薄膜的热稳定性下降。在主源气压比PN2/PAr较低时,有利于氮含量较低的γ’相的形成,在较高的PN2/PAr条件下,则形成氮含量较高的ε-(Fe,Ni)2~3N相和ξ-(Fe,Ni)2N相。
关键词 Fe-Ni-N薄膜结构磁性晶粒取向    
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
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