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材料研究学报  1998, Vol. 12 Issue (6): 570-574    
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CVD金刚石薄膜的成核机制
汪浩;朱鹤孙;沈明荣;宁兆元
北京理工大学;北京理工大学;苏州大学;苏州大学
REVIEW ON THE NUCLEATION MECHANISM OF DIAMOND FILMS BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
WANG Hao;ZHU Hesun;SHEN Mingrong;NING Zhaoyuan(Beijing Institute of Technology) (Suzhou University)
引用本文:

汪浩;朱鹤孙;沈明荣;宁兆元. CVD金刚石薄膜的成核机制[J]. 材料研究学报, 1998, 12(6): 570-574.
, , , . REVIEW ON THE NUCLEATION MECHANISM OF DIAMOND FILMS BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION[J]. Chin J Mater Res, 1998, 12(6): 570-574.

全文: PDF(508 KB)  
摘要: 已有许多有效的方法用来提高CVD金刚石薄膜的成核密度,但成核机理仍有很多问题本文简要介绍作者在这方面的一些工作
关键词 金刚石薄膜化学气相沉积成核机理    
Abstract:The enhancement of nucleation density of diamond grown by chemical vapor deposition and the mechanism of nucleation process is the focus of recent interest. Various methods have been used to enhance nucleation density effectively, however, much on the mec
Key wordsdiamond films    chemical vapor deposition    nucleation mechanism
收稿日期: 1998-12-25     
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