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材料研究学报  1999, Vol. 13 Issue (4): 445-448    
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用等离子体处理后硅橡胶的表面氧化
冯士芬;徐业彬;何艳艳;苏小保
中国科学院等离子体物理研究所
引用本文:

冯士芬; 徐业彬; 何艳艳; 苏小保 . 用等离子体处理后硅橡胶的表面氧化[J]. 材料研究学报, 1999, 13(4): 445-448.

全文: PDF(341 KB)  
摘要: 用不同功率和作用时间的等离子体处理户外绝缘用硅橡胶. 用XPS技术分析了处理后硅橡胶表面成分的变化. 结果表明, 等离子体处理后的硅橡胶表面“有机硅”含量降低, “无机硅”含量增加, 导致硅橡胶表面的C含量降低, O, Si含量增加. “无机硅”含量随等离子体处理时间的延长而增加. 探讨了硅橡胶的老化机理.
关键词 等离子体硅橡胶XPS技术    
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
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