Ti1-xVxO2薄膜的制备及光电性能

材料研究学报

2002, Vol. 16

Issue (1): 50-54

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Ti1-xVxO2薄膜的制备及光电性能

赵高凌; 施永明; 叶宏伟; 韩高荣

浙江大学硅材料国家重点实验室

引用本文:

赵高凌; 施永明; 叶宏伟; 韩高荣 . Ti1-xVxO2薄膜的制备及光电性能[J]. 材料研究学报, 2002, 16(1): 50-54.

全文: PDF(997 KB)

摘要: 用溶胶凝胶法制备了Ti1-xVxO2薄膜。用Ｘ射线衍射分析了Ti1-xVxO22的结晶性能，用Lambda紫外-可见光光度计测量了吸收光谱，用ZC36高阻仪测量了Ti1-xVxO2薄膜样品的电性能。结果表明:钒含量的增加导致Ti1-xVxO2薄膜光学吸收限红移,在形成固溶体后薄膜的电阻率随钒含量增加而下降。在 x=0.15时，V2O5相的出现使Ti1-xVxO2薄膜的电阻率出现一峰值。Ti1-xVxO2薄膜电阻率的这种变化规律是由于V的3d电子的引入和薄膜结晶性的变化。

关键词 ：溶胶凝胶法, Ti1-xVxO2固溶体薄膜, 电阻率

Key words：

收稿日期: 1900-01-01

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1 Zhang Lanting(张澜庭), Wu Jiansheng(吴建生), Jiang Kai(蒋凯), Zhou Junbiao(周俊彪), Journal of Iron and Steel Research(钢铁研究学报), Effect of nitrogen on Oxidation Resistance Improvement of Ti_3 Al through Nb Addition(氮在Nb元素提高Ti_3Al合金抗氧化性能中的作用), 9, S118(1997)
2 M.F.Stroosnijder, N.Zheng, W.J.Quadakkrs, R.Hofman, A.Gil, F.Lanza, Oxid. Met., The effect of niobium ion implantation on the oxidation behavior of a γ-TiAl-based intermetallic, 46, 19(1996)
3 Y.C.Zhu, Y.Matsumoto, K.Fujita and N.Iwamoto, Mater.Trans., JIM, Influence of Nb ion implantation on oxidation behavior of γ-TiAl alloys in flowing air, 4195) , 574(2000)
4 Y.Shida, H.Anada, Mater.Trans., JIM, Role of W, Mo, Nb and Si on oxidation of TiAl in air at high temperature, 35(9) , 623(1994)
5 P.Perez, V.A.C.Haanappel, M.F.Stroosnijder, Oxid.Met., The effect of niobium on the oxidation behavior of titanium in Ar/20%O_2 atmosphere, 53, 481(2000)
6 Krishan L. Luthra, Oxidation of Metals, Stability of protective oxide films on Ti-based alloys, 36, 475(1991)
7 J.M.Pakowski, F.S.Pettit and G.H.Meier, Scripta Metall., The effect of nitrogen on the oxidation of γ-TiAl,33, 997(1995)
8 N.Zheng, W.Fischer et al., Scripta Metall., The significance of sub-surface depletion layer composition for the oxidation behaviour of γ-titanium aluminides, Scripta Metall, 33, 47(1995)
9 Qu Henglei(曲恒磊), Zhou Lian(周廉), Wei Hairong(魏海荣), Acta Metall. Sinica(金属学报) Effect of nitrogen in oxidative atmosphere on high temperature oxidation behavior of TiAl (氧化气氛中的氮对TiAl高湿氧化行为的影响), 35, S331(1999)
10 J.Shen, L.Zhou, T.Li, J. Mat. Sci., Effects of surface-applied ceria on the stability of thermally growing chromia scale of FeCr alloys and 310 steel, 33, 5815(1998)

[1]	朱晓东, 夏杨雯, 喻强, 杨代雄, 何莉莉, 冯威. Cu掺杂金红石型TiO₂ 的制备及其光催化性能[J]. 材料研究学报, 2022, 36(8): 635-640.
[2]	朱海勇, 张伟. 锰掺杂和氧化铌种子层对铌酸钾钠薄膜电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(12): 945-950.
[3]	宋贵宏, 李秀宇, 李贵鹏, 杜昊, 胡方. 溅射沉积富镁Mg₃Bi₂薄膜的热电性能[J]. 材料研究学报, 2021, 35(11): 835-842.
[4]	武梦姣, 任召辉, 田鹤, 韩高荣. 铁电极化诱导的PbTiO₃薄膜的取向聚集生长和晶粒尺寸调控[J]. 材料研究学报, 2020, 34(9): 650-658.
[5]	李贵鹏, 宋贵宏, 胡方, 杜昊, 尹荔松. 溅射沉积掺Ag的SnSe薄膜的微结构和热电性能[J]. 材料研究学报, 2020, 34(8): 561-568.
[6]	刘晓东,谈淑咏,霍文燚,张旭海,邵起越,方峰. 氮流量比对磁控溅射(CoCrFeNi)N_x高熵合金薄膜的组织和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2019, 33(3): 185-190.
[7]	庞生洋,刘峰,胡成龙,王石军,汤素芳. 炭基体的结构对C/C复合材料导电性能的影响[J]. 材料研究学报, 2019, 33(12): 935-941.
[8]	秦斌,王群,王富孟,靳利娥,解小玲,曹青. 高电导率低热膨胀系数针状焦的制备[J]. 材料研究学报, 2019, 33(1): 53-58.
[9]	李延伟, 谢志平, 刘参政, 姚金环, 姜吉琼, 杨建文. 二维褶皱状V₂O₅纳米材料的制备和储锂性能[J]. 材料研究学报, 2017, 31(5): 374-380.
[10]	张娈娈, 高和军, 廖运文. 交联聚两性离子液基材料增强TiO₂光催化性能的研究[J]. 材料研究学报, 2016, 30(4): 307-313.
[11]	杨现锋, 徐协文, 刘其城, 谢志鹏. 高温渗碳制备防静电氧化锆陶瓷*[J]. 材料研究学报, 2016, 30(1): 45-50.
[12]	张广平,李孟林,吴细毛,李春和,罗雪梅. 尺度对金属材料电阻率影响的研究进展^*[J]. 材料研究学报, 2014, 28(2): 81-87.
[13]	陈一维张颖汪大云韩恩山 . Mn4+--掺杂锂钒氧化物的合成及其电化学性能[J]. 材料研究学报, 2011, 25(2): 205-208.
[14]	倪志龙王彪杨晔宋伟杰. 溶胶粒径对氧化硅减反射膜结构和光学性能的影响[J]. 材料研究学报, 2010, 24(5): 478-482.
[15]	李海金张清刘义孙文斌. Sn和Te掺杂对CrSb₂热电性能的不同影响[J]. 材料研究学报, 2010, 24(4): 429-433.

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