反应溅射Al_2O_3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响

材料研究学报

1997, Vol. 11

Issue (5): 507-510

研究论文

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反应溅射Al_2O_3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响

唐兆麟;王福会;吴维

中国科学院金属腐蚀与防护研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;中国科学院表面工程青年实验室;沈阳市;110015;中国科学院金属腐蚀与防护研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;中国科学院表面工程青年实验室;沈阳市;110015;中国科学院金属腐蚀与防护研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;沈阳市;110015

EFFECT OF REACTIVELY-SPUTTERED Al_2O_3 FILMS ON OXIDATION RESISTANCE OF TiAl

TANG Zhaolin; WANG Fuhui; WU Weitao(State key Lab for Corrosion and Protection. Young Scientists Lab of Sur face Engineering; Institute ofCorrosion and Protection of Metals; The Chinese Academy of Sciences)

引用本文:

唐兆麟;王福会;吴维. 反应溅射Al_2O_3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响[J]. 材料研究学报, 1997, 11(5): 507-510.
, , . EFFECT OF REACTIVELY-SPUTTERED Al_2O_3 FILMS ON OXIDATION RESISTANCE OF TiAl[J]. Chin J Mater Res, 1997, 11(5): 507-510.

全文: PDF(1777 KB)

摘要: 研究了反应溅射Al2O3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响结果表明,在800和900℃,Al2O3膜大大提高TiAl的抗氧化性能在800℃氧化100h后,Al2O3膜及TiAl基体几乎未发生变化;在900℃氧化时,TiAl中Al优先氧化形成Al2O3,使Al2O3膜增厚,龟裂纹被弥合,仅有少量TiO2出现在大的裂纹处1000℃氧化时,原始Al2O3膜变得不连续,失去保护性

关键词 ： Al_2O_3膜, TiAl金属间化合物, 高温氧化

Abstract：Effect of reactively-sputtered Al2O3 film on oxidation resistance of TiAl intermetallics was studied at 800~ 1000℃ in static air. The results showed that Al2O3 film improved the oxidation resistance of TiAl remarkably at 800 and 900℃. At 800℃, the Al2O3 f

Key words： Al_2O_3 film TiAl intermetallics oxidation

收稿日期: 1997-10-25

基金资助:国家杰出青年基金!59625103;;863计划!715—011—012

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