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1997年, 第11卷, 第5期 刊出日期:1997-10-25
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纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结
李亚利;梁勇;佟百运;郑丰;马贤峰;崔硕景;赵伟
材料研究学报. 1997, 11 (5): 473-478.
用六面顶超高压在1.0-5.0GPa,25~1500℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Si3N4粉,有“冷烧结”特代表现为:在5GPa,室温下压制的块体密度达理论值的93%,这是高压下纳米粒子产生流变的结果当烧结温度较低(800~950℃)时,高压烧结体为棕色透明的致密(98%)纳米非晶块体;烧结温度较高(1300~1500℃)时,形成纯白色致密纳米晶Si3N4块体,硬度为15.53~1605GPa研究表明,超高压烧结纳米陶瓷粉可显著降低烧结温度,控制晶粒生长,是获得致密纳米材料的有效途径
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反应溅射Al_2O_3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响
唐兆麟;王福会;吴维
材料研究学报. 1997, 11 (5): 507-510.
研究了反应溅射Al2O3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响结果表明,在800和900℃,Al2O3膜大大提高TiAl的抗氧化性能在800℃氧化100h后,Al2O3膜及TiAl基体几乎未发生变化;在900℃氧化时,TiAl中Al优先氧化形成Al2O3,使Al2O3膜增厚,龟裂纹被弥合,仅有少量TiO2出现在大的裂纹处1000℃氧化时,原始Al2O3膜变得不连续,失去保护性
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