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材料研究学报  1996, Vol. 10 Issue (4): 419-422    
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电沉积Ni—P非晶态合金的初期结构及形成机理
于维平;段淑贞
北京航空航天大学;北京科技大学;北京航空航天大学金属工学教研室
INITIAL STRUCTURE OF ELECTODEPOSTING Ni-P AMORPHOUS ALLOY AND ITS FORMATION MECHANISM
YU Weiping(Beijing University of Aeronautics and Astronautics)DUAN Shuzhen(University of Science and Technology Beijing)(Correspondent:Assistant Professor;Beijing University of Aeronautics and Astronautics;Beijing 100083)
引用本文:

于维平;段淑贞. 电沉积Ni—P非晶态合金的初期结构及形成机理[J]. 材料研究学报, 1996, 10(4): 419-422.
, . INITIAL STRUCTURE OF ELECTODEPOSTING Ni-P AMORPHOUS ALLOY AND ITS FORMATION MECHANISM[J]. Chin J Mater Res, 1996, 10(4): 419-422.

全文: PDF(898 KB)  
摘要: 在典型的用于电沉积Ni—P非晶态合金的溶液中,于非晶碳膜上恒电位[-900mV(SCE)]电沉积1s后,发现有Ni的晶核形成,在相邻很近的Ni晶核之间沉积出Ni-P—S非晶核及不连续非晶镀层.证明电沉积Ni-P合金初期晶态Ni的形成并非基体外延所致.
关键词 非晶态电沉积初期结构    
Abstract:Electrodeposition was carried out on an amorphous carbon film at potential -900 mV(SCE)for 1s in a typical bath for plating Ni-P alloy. It was shown that many crystal Ni nuclei formed on the amorphous carbon film and the discontinuous amorphous film and
Key words amorphous alloy    electrodeposition    initial structure
收稿日期: 1996-08-25     
基金资助:国家自然科学基金;;冶金部腐蚀-磨蚀与表面技术开放实验室项目
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