W,P对Ni基非晶镀层耐蚀性能的影响

材料研究学报

1995, Vol. 9

Issue (2): 115-118

研究论文

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W,P对Ni基非晶镀层耐蚀性能的影响

姚素薇;赵水林;郭鹤桐

天津大学

EFFECT OF W, P ON THE CORROSION-RESISTANCE OF THE AMORPHOUS Ni-BASE FILM

YAO Suwei; ZHAO Shuilin; GUO Hetong(Tianjin University)Masamichi Kowaka(Central Research Laboratory. C.Uyemura & Co. Ltd.; Japan)

引用本文:

姚素薇;赵水林;郭鹤桐. W,P对Ni基非晶镀层耐蚀性能的影响[J]. 材料研究学报, 1995, 9(2): 115-118.
, , . EFFECT OF W, P ON THE CORROSION-RESISTANCE OF THE AMORPHOUS Ni-BASE FILM[J]. Chin J Mater Res, 1995, 9(2): 115-118.

全文: PDF(281 KB)

摘要: 电沉积Ni-P,Ni-W和Ni-W-P非晶态合金镀层的阳极极化曲线表明,添加类金属P使镀层的腐蚀电位向正向移动,添加高熔点金属W使维钝电流密度降低.此外,对Ni-W和Ni-W-P合金镀层进行钝化处理,可显著提高镀层在NaCl溶液中的耐腐蚀性能

关键词 ： Ni-P, Ni-W, Ni-W-P, 非晶态合金, 耐蚀性

Abstract：The anodic polarization curves of electrodeposited Ni-P. Ni-W and Ni-W-P amorphous alloy films show that the addition of analogous metal P can make the dePOsits corrosion POtential more noble, and the addition of high melting-point metal W can make the cu

Key words： Ni-P Ni-W Ni-W-P amorphous alloy deposits corrosion resistance.

收稿日期: 1995-04-25

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