材料研究学报  1992, Vol. 6 Issue (3): 241-244

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多离子束沉积Ti-N膜横截面组织的电镜研究

万立骏;黑祖昆;高路斯;陈宝清

大连海运学院;大连海运学院;大连理工大学;大连理工大学

TEM STUDY ON CROSS SECTION STRUCTURE OF Ti-N FILM BY MIB

WAN Lijun;HEI Zukun(Dalian Maritime University)GAO Lusi;CHEN Baoqing(Dalian University of Technology)

万立骏;黑祖昆;高路斯;陈宝清. 多离子束沉积Ti-N膜横截面组织的电镜研究[J]. 材料研究学报, 1992, 6(3): 241-244.
, , , . TEM STUDY ON CROSS SECTION STRUCTURE OF Ti-N FILM BY MIB[J]. Chin J Mater Res, 1992, 6(3): 241-244.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(1080 KB)   摘要: 多离子束混合材料表面改性技术有比离子镀和离子注入方法优越之处。本文研究了高速钢(W18Cr4V)表面多离子束混合沉积Ti-N 膜的横截面组织,结果表明,从基体至镀膜顶端共有5个层次的组织。在基体表面有一层约20nm 厚的Ti-Fe 非晶合金层,非晶层外是层状Ti_2N 组织,极细纤维状Ti_2N 组织,极细纤维状、略有粗化的纤维状以及细柱状的Ti_2N 和TiN 组织,最外层是细柱状的TiN 组织。高速钢基体表面晶粒明显细化,且有约100nm 左右深度的Ti-N-Fe 及其它基体元素的混合区。探讨了膜层形成机理及对性能影响。 关键词 ： 多离子束混合,  镀膜的横截面组织,  Fe-Ti非晶,  Ti_2N,  TiN     Abstract：In this paper the results of TEM study on cross section structure of Ti-N filmsby MIB are reported.There are five layers from the substrate of W18Cr4V to the top of the film:Fe-Ti amorphous alloy about 20nm,tier Ti_2N,fibre Ti_2N,fibre Ti_2N+TiN and thin Key words： multiple ion beam mixing    cross section structure of film    Fe-Ti amorphous alloy    Ti_2N    TiN 收稿日期: 1992-06-25      基金资助:大连理工大学材料表面三束改性国家重点实验室资助 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 万立骏 黑祖昆 高路斯 陈宝清 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1992/V6/I3/241 1 陈宝清.离子镀及溅射技术.北京:国防工业出版社,1990:11 2 Wan L J,Hei Z K.Scripta Met,1989;23(2) :213 3 林树智,黑祖昆.物理学报,1984;33(3) :302 4 Wan L J.Kuo K H.J Vac Sci Technol.1989;7(4) :2678v [1] 谢礼兰, 杨冬升, 凌静. 高容量锂电池负极材料TiNb2O7的合成及其机理[J]. 材料研究学报, 2020, 34(5): 385-391. [2] 杨波波,孙珲,杨田林,郑小龙,徐涛,李方正,宋淑梅. 结构调制超硬Ti/TiN纳米多层膜的制备及其尺寸效应[J]. 材料研究学报, 2019, 33(2): 138-144. [3] 赵升升, 赵彦辉, 陈伟, 费加喜, 王铁钢. 轴向磁场对电弧离子镀TiN/Cu薄膜性能的影响[J]. 材料研究学报, 2018, 32(5): 381-387. [4] 宋贵宏,肖金泉,杜昊,陈立佳. 轴对称磁场对电弧离子镀TiN-Cu纳米复合膜性能的影响[J]. 材料研究学报, 2015, 29(10): 787-793. [5] 魏永强 田修波 巩春志 杨士勤. 脉冲偏压幅值对TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2011, 25(6): 630-636. [6] 徐建华; 王昕; 马胜利; 刘阳; 徐可为 . TiN纳米薄膜的高硬度及其产生机制[J]. 材料研究学报, 2008, 22(2): 201-204. [7] 易万兵; 张文杰; 吴瑾; 邹世昌 . TiN薄膜的循环制备和电学性质[J]. 材料研究学报, 2006, 20(2): 213-216. [8] 魏仑; 邵楠; 梅芳华; 李戈扬 . SiO2层晶化对TiN/ SiO2纳米多层膜结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2005, 19(5): 479-484. [9] 祖小涛; 朱莎; 张传飞; 王鲁闽 . 重离子辐照诱发TiNiCu合金非晶化的原位电子显微研究[J]. 材料研究学报, 2003, 17(2): 210-213. [10] 胡强; 金伟; 曹名洲; 李守新; 刘晓鹏 . Ti-49.6Ni合金在拉压对称循环载荷下的电阻-温度曲线[J]. 材料研究学报, 2001, 15(6): 609-609. [11] 李岩; 崔立山; 郑雁军; 杨大智 . TiNi形状记忆合金在定应变约束下的马氏体相变[J]. 材料研究学报, 2001, 15(6): 649-653. [12] 刘晓鹏; 曹名洲; 孟长功; 杨大智 . 预应变对TiNi薄膜相变温度及热滞的影响[J]. 材料研究学报, 2001, 15(5): 549-552. [13] 王合英; 马振伟; 姜恩永; 何元金; 陈宏; 马兴坤 . FeTiN纳米薄膜的结构核软磁性能[J]. 材料研究学报, 1999, 13(4): 343-346. [14] 王者昌;梁亚南;斯重遥. Ti—Ni合金箔生产新工艺研究[J]. 材料研究学报, 1995, 9(1): 16-20. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed