材料研究学报  1995, Vol. 9 Issue (2): 163-166

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金刚石的同质外延掺硼和Schottky特性

沈荷生;张志明;何贤昶;李胜华

上海交通大学

BORON DOPED DIAMOND HOMOEPITAXIAL GROWTH AND SCHOTTKY CHARACTERIZATION

SHEN Hesheng; ZHANG Zhiming; HE Xianchang; LI Shenghua(Dept. of Applied Chemistry; Shanghai Jiao Tong University; Shanghai 200030)

沈荷生;张志明;何贤昶;李胜华. 金刚石的同质外延掺硼和Schottky特性[J]. 材料研究学报, 1995, 9(2): 163-166.
, , , . BORON DOPED DIAMOND HOMOEPITAXIAL GROWTH AND SCHOTTKY CHARACTERIZATION[J]. Chin J Mater Res, 1995, 9(2): 163-166.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(2298 KB)   摘要: 在<100>取向的金刚石衬底上,用微波PCVD法进行同质外延、掺杂和Schottky特性的实验研究,总结了反应气体、碳源浓度等因素对外延展形貌、结构的影响,B/C比对掺硼外延层结构、形貌和电学性能的影响,以及接触金属、温度对Schottky特性的影响. 关键词 ： 金刚石薄膜,  同质外延,  硼掺杂,  Schottky特性     Abstract：An experimental investigation has been done for diamond homoepitaxial growth on(100) diamond substrate by microwave PCVD method. doping and Schottky characterization. The results concern the influence of the reaction gases,carbon concentration, ratio of b Key words： diamond film    homoepitaxy    B-doping    Schottky characteristic 收稿日期: 1995-04-25      基金资助:国家自然科学基金;;国家高技术项目 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 沈荷生 张志明 何贤昶 李胜华 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1995/V9/I2/163 1KatoM,SatoY,MatsumotoYSetakaN．JCrystalGrowth,1983;62:6422WatanabeI,SugataK．JpnJApplPhys,1988;27:13973JengDG．JApplPhys,1990;68:59022 [1] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [2] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [3] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [4] 王延平 王兵 熊鹰 周亮. 掺氮纳米金刚石膜的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2011, 25(2): 147-150. [5] 郭太波 陈翌庆 张新华 刘利柱. 分级氧化铟纳米结构的同质外延生长及发光性能[J]. 材料研究学报, 2011, 25(1): 7-12. [6] 徐跃 张彤 李柳暗 李红东 吕宪义 金曾孙. 自支撑硼掺杂金刚石膜残余应力和微观应力的XRD分析[J]. 材料研究学报, 2009, 23(3): 264-268. [7] 王玉乾 王兵 孟祥钦 甘孔银. 掺硼对超纳米金刚石薄膜的影响[J]. 材料研究学报, 2009, 23(3): 288-292. [8] 刘洪喜 蒋业华 周荣 詹肇麟 汤宝寅. 类金刚石薄膜对轴承钢表面机械性能和滚动接触疲劳寿命的影响[J]. 材料研究学报, 2009, 23(1): 43-48. [9] 汪浩;朱鹤孙;沈明荣;宁兆元. CVD金刚石薄膜的成核机制[J]. 材料研究学报, 1998, 12(6): 570-574. [10] 郑昌琼;张铭诚;冉均国. 金刚石薄膜品质及其表征[J]. 材料研究学报, 1997, 11(3): 231-239. [11] 唐璧玉;靳九成;靳浩;颜永红;李绍绿;夏金童;陈小华;陈宗璋. 化学汽相沉积金刚石薄膜的生长[J]. 材料研究学报, 1997, 11(3): 334-336. [12] 陈岩;黄荣芳;闻立时;师昌绪. 温度场对热丝化学气相沉积大面积生长金刚石膜的影响[J]. 材料研究学报, 1995, 9(3): 245-249. [13] 张志伟;李荣志;朱鹤孙. 金刚石薄膜及高保真声学振动膜材料概述[J]. 材料研究学报, 1994, 8(4): 330-336. [14] 郭力军;许念坎;刘正堂;张贵锋;郑修麟. 极板负偏压对类金刚石薄膜性质的影响[J]. 材料研究学报, 1994, 8(1): 67-70. [15] 张贵锋;郑修麟. 衬底表面预处理对金刚石薄膜形核及长大的影响[J]. 材料研究学报, 1993, 7(2): 132-137. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed