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材料研究学报  2000, Vol. 14 Issue (1): 56-60    
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活性填料在制备陶瓷基复合材料中的应用
陈朝辉; 谢征芳; 周长江
国防科技大学
引用本文:

蓝慕杰; 叶水驰; 鲍海飞; 周士仁; 姚枚 . 活性填料在制备陶瓷基复合材料中的应用[J]. 材料研究学报, 2000, 14(1): 56-60.

全文: PDF(549 KB)  
摘要: 研究了Ti、TiH2等活性填料在聚碳硅烷先驱体裂解制备SiC陶瓷材料中的应用. Ti、TiH2等可增加聚碳硅烷的裂解陶瓷产率, 可与N2气氛反应生成氮化物, 导致体积膨胀而降低陶瓷的气孔率, 提高材料性能.
关键词 活性填料聚碳硅烷先驱体裂解    
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
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