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材料研究学报  1999, Vol. 13 Issue (2): 153-157    
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NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜的界面结构与巨磁电阻
郑鹉;王艾玲;周安;陈金昌;王岩国;周少雄
首都师范大学;加拿大阿尔伯特大学;国家非晶微晶合金工程技术研究中心
引用本文:

郑鹉; 王艾玲; 周安; 陈金昌; 王岩国; 周少雄 . NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜的界面结构与巨磁电阻[J]. 材料研究学报, 1999, 13(2): 153-157.

全文: PDF(488 KB)  
摘要: 采用磁控溅射方法制备了NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜.测量了厚度不同的Cu层和Mo层多层膜的磁性和磁电阻,并用电镜分析了部分NiFe/Cu多层膜样品.测量到NiFe/Cu多层膜的室温巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一、二、三峰.而在NiFe/Mo多层膜中未发现巨磁电阻效应.讨论了多层膜的界面结构对巨磁电阻效应的影响.
关键词 NiFe/Cu多层膜NiFe/Mo多层膜巨磁电阻    
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
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