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材料研究学报  1991, Vol. 5 Issue (2): 129-133    
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X 射线双晶衍射在新材料研究中的应用
朱南昌;李润身;陈京一
中国科学院上海冶金研究所;中国科学院上海冶金研究所;中国科学院上海冶金研究所
APPLICATIONS OF X-RAY DOUBLE CRYSTAL DIFFRACTION TO INVESTGATION OF NEW MATERIALS
ZHU Nanchang LI Runshen CHEN Jingyi (Shanghai Institute of Metallurgy;Academia Sinica)
引用本文:

朱南昌;李润身;陈京一. X 射线双晶衍射在新材料研究中的应用[J]. 材料研究学报, 1991, 5(2): 129-133.
, , . APPLICATIONS OF X-RAY DOUBLE CRYSTAL DIFFRACTION TO INVESTGATION OF NEW MATERIALS[J]. Chin J Mater Res, 1991, 5(2): 129-133.

全文: PDF(443 KB)  
摘要: 本文介绍了X 射线双晶衍射术的基本原理。描述了双晶衍射技术在半异体材料的离子注入、单层及多层异质结外延膜、应变超晶格等新型材料研究中的应用。给出了双晶衍射对Si 中高能B~+注入和In_xGa_(1-x)As/GaAs 超晶格研究的实例。
关键词 离子注入X 射线双晶衍射计算机模拟    
Abstract:The fundamental theory of X-ray double-crystal diffractometry is pres-ented in this paper.The applications of this technique to investigation or new structuralmaterials,which include ion implantation into semiconductor materials,single or multipleepitaxia
Key wordsion implantation    X-ray double-crystal diffraction    computer simulation
收稿日期: 1991-04-25     
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