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材料研究学报  1998, Vol. 12 Issue (5): 543-545    
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IBAD合成CN_x/NbN纳米多层膜
王静;何建立;李文治;李恒德
清华大学材料科学与工程系;北京市;100084;清华大学;北京市;100084;清华大学;北京市;100084;清华大学;北京市;100084
THE INVESTIGATIONS ON NANA-SCALE MULTILAYERS OF CN_x/NbN SYNTHESIZED BY IBAD
WANG Jing; HE Jianli;LI Wenzhi;LI Hengde(Depertment of Material Science and Technolopy; Tsinghua Univ.; Beijing 100084)
引用本文:

王静;何建立;李文治;李恒德. IBAD合成CN_x/NbN纳米多层膜[J]. 材料研究学报, 1998, 12(5): 543-545.
, , , . THE INVESTIGATIONS ON NANA-SCALE MULTILAYERS OF CN_x/NbN SYNTHESIZED BY IBAD[J]. Chin J Mater Res, 1998, 12(5): 543-545.

全文: PDF(750 KB)  
摘要: 用离子束辅助沉积技术(IonBeamAssistedDeposition,IBAD)制成CNx/NbN纳米多层膜.研究了工艺参数(轰击能量,基片温度)对股的结构和性能的影响,分析表明,多层膜内的NbN为多晶结构.在轰击能量为400eV,基片温度为600℃时,得到了与β—C3N的晶面间距相对应的三条电子衍射环.基片温度的上升,膜层的硬度上升;轰击能量增大.炒股层的硬度表现为先上升后下降,最大显微硬度达41.81GPa.
关键词 纳米多层膜结构微组装IBADNbNβ—C_3N_4    
Abstract:Nano-scale multilayers of CNx/NbN have been prepared by ion beam sputtering deposition. The effects of such deposition parameters as substrate temperature, bombarding energy individual layer thickness, etc, were studied. TEM and X-ray analysis confirmed t
Key wordsnano-scale multilayers    micro assembling    IBAD    NbN    β-C_3N_4
收稿日期: 1998-10-25     
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