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材料研究学报  1993, Vol. 7 Issue (2): 127-131    
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MOCVD 生长及 TEM 表征 GaAs/Al_xGa_(1-x)As 量子异质结构材料
徐现刚;黄柏标;刘士文;任红文;于淑琴;蒋民华
山东大学;山东大学;山东大学;山东大学;山东大学;山东大学
MOCVD GROWTH AND TEM CHARACTERIZATIONS OF GaAs/Al_xGa_(1-x)As QUANTUM HETEROSTRUCTURES
XU Xian'gang HUANG Baibiao LIU Shiwen REN Hongwen YU Shuqin JIANG Minhua (Shandong University)
引用本文:

徐现刚;黄柏标;刘士文;任红文;于淑琴;蒋民华. MOCVD 生长及 TEM 表征 GaAs/Al_xGa_(1-x)As 量子异质结构材料[J]. 材料研究学报, 1993, 7(2): 127-131.
, , , , , . MOCVD GROWTH AND TEM CHARACTERIZATIONS OF GaAs/Al_xGa_(1-x)As QUANTUM HETEROSTRUCTURES[J]. Chin J Mater Res, 1993, 7(2): 127-131.

全文: PDF(1260 KB)  
摘要: 本文报道MOCVD 生长GaAs/Al_xGa_(1-x)As 量子异质结构材料(超晶格、量子阱及量子共振隧穿二极管),采用横断面透射显微术表征了样品的界面结构。实验表明:多量子阱与超晶格的周期性良好,层与层之间界面清晰,采用[100]带轴入射,观察到超晶格的TEM 卫星衍射斑,测量到量子阱中电子的子能级跃迁吸收。研究了生长工艺和材料结构的关系,分析了影响RT 器件的因素。
关键词 MOCVDTEMGaAs/Al_xGa_(1-x)As量子异质结构    
Abstract:The MOCVD growth of GaAs/Al_xGa_(1-x)As quantum heterostructures(in-cluding superlattices,quantum wells,double barrier resonant tunneling diods)are reportedin this paper.The interface structures of the epilayers are characterized by cross-sectionaltransmi
Key wordsMOCVD    TEM    GaAs/Al_xGa_(1-x)As    Qutantum heterostructure
收稿日期: 1993-04-25     
基金资助:国家自然科学基金,L-9587007
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