材料研究学报  1992, Vol. 6 Issue (1): 56-59

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氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积

陈岩;黄荣芳;闻立时;师昌绪

中国科学院金属研究所;博士生;沈阳市110015;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所

DEPOSITION OF DIAMOND FILM ON Si_3N_4 AND SAILON CERAMICS

CHEN Yan;HUANG Rongfang;WEN Lishi;SHI Changxu(Institute of Metal Research;Acadamia Sinica)

陈岩;黄荣芳;闻立时;师昌绪. 氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积[J]. 材料研究学报, 1992, 6(1): 56-59.
, , , . DEPOSITION OF DIAMOND FILM ON Si_3N_4 AND SAILON CERAMICS[J]. Chin J Mater Res, 1992, 6(1): 56-59.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(787 KB)   摘要: 本文用热丝CVD 法在氮化硅复合陶瓷及Sialon 陶瓷上沉积了金刚石薄膜,用X 射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、表面形貌仪、划痕实验仪对所形成的膜及基体进行了分析。初步探讨了膜与基材的附着性影响因素。 关键词 ： 热丝CVD,  金刚石薄膜,  热膨胀系数     Abstract：In this paper,diamond film had been synthesized on Si_3N_4+SiC composite ce-ramics and sialon ceramics by HFCVD(hot filament chemical vapor deposition).The obtaindfilms were analysized by X-ray diffraction,Raman spectrometer,scanning electron microscopy,p Key words： HFCVD    diamond film    thermal expand coeffcient 收稿日期: 1992-02-25      基金资助:国家自然科学基金,9587007—02 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 陈岩 黄荣芳 闻立时 师昌绪 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1992/V6/I1/56 1 闻立时,黄荣芳.薄膜科学与技术,1990;3(3) :72 2 Matsumoto S,Soto Y.J Mat Sci,1982;7:3106 3 Setaka N.J Mater Res,1989;4:664 4 Kamo K,Sato Y,Matsumoto Set al.J Cryst growth,1983;62:642 5 Suzuku K,Sawabe A,Yasuda H et al.Appl Phy Lett,1987;50:728 6 Joffreau P O,Haubner R,Lux B et al.1988;12:186 7 Kumo M,Chawanya H,Tanaka T et al.Mat Sci and Engineering A 1988;105/106:535 8 Bichler R,Haubner R,Lux B.Proc 12th 1st.Please seminar,May 8-12,1989;C-15:427 9 Huang Rongfang,Chen Yan,Wen Lishi et al.C-MRS 1990 10 Diane S,Knight,William B.J Mat Res 1989;4(2) :385 11 Atsuhito,Sawabe et al.Thin Solid Film,1986;137:89 12 Williams B E,Glass J T.J Mater Res 1989;4(2) :373 [1] 邵思武, 郑宇亭, 安康, 黄亚博, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 李成明. 偏压技术在金刚石薄膜制备中应用的进展[J]. 材料研究学报, 2022, 36(3): 161-174. [2] 崔丽, 孙丽丽, 郭鹏, 马鑫, 王舒远, 汪爱英. 沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2022, 36(11): 801-810. [3] 熊文文, 何嵩, 郑淞生, 程其进, 沈宏勋, 陈朝. 用RF-PECVD法制备类金刚石薄膜[J]. 材料研究学报, 2021, 35(2): 154-160. [4] 秦斌,王群,王富孟,靳利娥,解小玲,曹青. 高电导率低热膨胀系数针状焦的制备[J]. 材料研究学报, 2019, 33(1): 53-58. [5] 李保卫,范秀娟,杜永胜,赵鸣. 石墨粉对矿渣微晶玻璃结构和性能的影响[J]. 材料研究学报, 2015, 29(10): 767-772. [6] 李祖来,蒋业华,周荣,王志胜,山泉. 碳化钨颗粒增强钢基表层复合材料的热物理特性*[J]. 材料研究学报, 2014, 28(8): 621-626. [7] 王延平 王兵 熊鹰 周亮. 掺氮纳米金刚石膜的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2011, 25(2): 147-150. [8] 王玉乾 王兵 孟祥钦 甘孔银. 掺硼对超纳米金刚石薄膜的影响[J]. 材料研究学报, 2009, 23(3): 288-292. [9] 刘洪喜 蒋业华 周荣 詹肇麟 汤宝寅. 类金刚石薄膜对轴承钢表面机械性能和滚动接触疲劳寿命的影响[J]. 材料研究学报, 2009, 23(1): 43-48. [10] 汪浩;朱鹤孙;沈明荣;宁兆元. CVD金刚石薄膜的成核机制[J]. 材料研究学报, 1998, 12(6): 570-574. [11] 郑昌琼;张铭诚;冉均国. 金刚石薄膜品质及其表征[J]. 材料研究学报, 1997, 11(3): 231-239. [12] 唐璧玉;靳九成;靳浩;颜永红;李绍绿;夏金童;陈小华;陈宗璋. 化学汽相沉积金刚石薄膜的生长[J]. 材料研究学报, 1997, 11(3): 334-336. [13] 陈岩;黄荣芳;闻立时;师昌绪. 温度场对热丝化学气相沉积大面积生长金刚石膜的影响[J]. 材料研究学报, 1995, 9(3): 245-249. [14] 沈荷生;张志明;何贤昶;李胜华. 金刚石的同质外延掺硼和Schottky特性[J]. 材料研究学报, 1995, 9(2): 163-166. [15] 张志伟;李荣志;朱鹤孙. 金刚石薄膜及高保真声学振动膜材料概述[J]. 材料研究学报, 1994, 8(4): 330-336. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed