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材料研究学报  1988, Vol. 2 Issue (4): 94-95    
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Si/Ag/Si近红外透明导电薄膜的双S枪直流磁控溅射淀积
叶志镇;唐晋发
浙江大学;浙江大学
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引用本文:

叶志镇;唐晋发. Si/Ag/Si近红外透明导电薄膜的双S枪直流磁控溅射淀积[J]. 材料研究学报, 1988, 2(4): 94-95.
, . [J]. Chin J Mater Res, 1988, 2(4): 94-95.

全文: PDF(151 KB)  
摘要: <正> 众所周知,Si 是理想的红外材料,因为它在红外区域的光学吸收比较小。同时,Ag在近红外的光学吸收率也很小,因此,通过合理的设计,可望得到由Si-Ag 组成的近红外透射率较高的薄膜。如果应用普通的蒸发技术制备这种薄膜,膜厚不易控制,膜层也不牢固。
收稿日期: 1988-08-25     
1 叶志镇.激光与红外,1987;17(3) :46
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