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材料研究学报  1988, Vol. 2 Issue (4): 56-60    
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直拉硅单晶中的新施主
林兰英;王占国;钱家骏;葛惟锟;万寿科;林汝淦
中国科学院半导体研究所;中国科学院半导体研究所;中国科学院半导体研究所;中国科学院半导体研究所;中国科学院半导体研究所;中国科学院半导体研究所
NEW DONORS IN CZ-SI CRYSTALS
LIN Lanying;WANG Zhanguo;QIAN Jiajun;GE Weikun;WAN Shouke;LIN Rugan(Institute of Semiconductors;Academia Sinica;Beijing)
引用本文:

林兰英;王占国;钱家骏;葛惟锟;万寿科;林汝淦. 直拉硅单晶中的新施主[J]. 材料研究学报, 1988, 2(4): 56-60.
, , , , , . NEW DONORS IN CZ-SI CRYSTALS[J]. Chin J Mater Res, 1988, 2(4): 56-60.

全文: PDF(676 KB)  
摘要: 直拉硅单晶中新施主(ND)的形成不仅依赖于其氧含量,而且为碳的存在所促进;此外,原生晶体中的微缺陷也起非常重要的作用。我们求出的新施主能级分别为E_(ND)(Ⅰ)=50±5meV,E_(ND)(Ⅱ)=100±10meV(对于P 型单晶)以及E_(ND)(Ⅲ)=25meV(对于N 型单晶)。
Abstract:We found that new donor(ND)generation was strongly dependent on theO_i content and promoted by the presence of a large amount of carbon atoms.In addition,microdefects in as-grown crystal also played a very importantrole in ND formatiton.There are three ki
收稿日期: 1988-08-25     
基金资助:国家自然科学基金,信85267
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