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材料研究学报  1995, Vol. 9 Issue (3): 245-249    
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温度场对热丝化学气相沉积大面积生长金刚石膜的影响
陈岩;黄荣芳;闻立时;师昌绪
中国科学院全属研究所;中国科学院物理研究所
THE INFLUENCES OF TEMPERATURE FIELD ON LARGE AREA DIAMOND GROWTH OF DIAMOND FILM BY HFCVD
CHAN Yan; HUANG Rongfang; WEN Lishi; SHI Chuangxu(Institute of Metal Research; Chinese Academy of Sciences)
引用本文:

陈岩;黄荣芳;闻立时;师昌绪. 温度场对热丝化学气相沉积大面积生长金刚石膜的影响[J]. 材料研究学报, 1995, 9(3): 245-249.
, , , . THE INFLUENCES OF TEMPERATURE FIELD ON LARGE AREA DIAMOND GROWTH OF DIAMOND FILM BY HFCVD[J]. Chin J Mater Res, 1995, 9(3): 245-249.

全文: PDF(1294 KB)  
摘要: 用100×100mm大面积加热器进行了气相生长金刚石膜试验,对得到的金刚石膜样品作了拉曼光谱分析,并用扫描电镜观察了不同空间区域中金刚石形核的特点.拉曼光谱和扫描电镜观察的结果,均给出了与温度分布特点较好的对应.本研究的结果,指出厂热丝法大面积气相生长金刚石膜工业应用的可能性.
关键词 气相况积金刚石薄膜温度场    
Abstract:The large area temperature field was formed through large area planary arrangment of parallel W filament arrangment. and the temperature distribution of temperature field was measured. The results have shown that an uniform temperature region of 70×70mmwi
Key words HFCVD. diamond film. temperature field
收稿日期: 1995-06-25     
基金资助:国家自然科学基金
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