材料研究学报  1996, Vol. 10 Issue (5): 494-496

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离子束溅射Ti和Ni薄膜的初生过程

杨春生;周狄;威震中;张寿柏;蔡丙初

上海交通大学

THE INITIAL STAGE OF ION BEAM DEPOSITING Ti AND Ni FILM GROWTH

YANG Chunsheng;ZHOU Di;QI Zhenzhong;ZHANG Shoubo;CAI Bingchu(Shanghai Jiaotong University)

杨春生;周狄;威震中;张寿柏;蔡丙初. 离子束溅射Ti和Ni薄膜的初生过程[J]. 材料研究学报, 1996, 10(5): 494-496.
, , , , . THE INITIAL STAGE OF ION BEAM DEPOSITING Ti AND Ni FILM GROWTH[J]. Chin J Mater Res, 1996, 10(5): 494-496.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(251 KB)   摘要: 用AES方法原位研究了离子束溅射Ti和Ni元素成膜的初生模式,它们在单晶Si上以层状FM模式生长,其成膜速率与其溅射产额有关。 关键词 ： 薄膜初生过程,  层状生长模式     Abstract：The initial stage of ion beam sputtered Ni and Ti film has been investigated in situ using AES .The results show that the film growth model of Ti and Ni films sputtered on Si single crystal (100) surface are FM model i.e layer by layer growth model. The f Key words： initial stage of film growth; layer growth model 收稿日期: 1996-10-25      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 杨春生 周狄 威震中 张寿柏 蔡丙初 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/      或      https://www.cjmr.org/CN/Y1996/V10/I5/494 1QIZhenzhong,DUGuoping,KEHanqi,JMaterSciTechnol,1994,10:4512ArgileCC,RheasGE．SurfaceSci,1989,10:773JoukoVaehaekangas,WilliamsEllenD,RobertLPark．PhysicalReview,1996,33:22814杜国平,Ti//NaCl(100)、Ag//Ta(100)和Ag//Ta(110)薄膜的初生过程的研究,[硕士论文],中国科学院固体物理所,1992:355ShiXu,EvansBL．JMaterialsSci,1992,27:31086陈国平．薄膜物理与技术,南京:东南大学出版社,1993:20f No related articles found! Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed