材料研究学报  2000, Vol. 14 Issue (5): 501-504

论文 本期目录 | 过刊浏览 |

溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜光学常数的影响

谢泉(1;2); 侯立松(1);干福熹(1); 阮昊(1);李晶(1);李进延(1)

1.中国科学院上海光学精密机械研究所; 2.长沙交通学院

谢泉; 侯立松; 干福熹; 阮昊; 李晶; 李进延 . 溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜光学常数的影响[J]. 材料研究学报, 2000, 14(5): 501-504.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(375 KB)   摘要: 研究了溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数与波长关系的影响,结果表明, 在波长小于500nm的情况下,随溅射功率的增加非晶态薄膜的折射率n先增加然后减小,消光系数k则逐渐减小; 在波长大于500nm的情况下,随溅射功率的增加折射率n逐渐减少, 消光系数$k$先减小后增加.对于晶态薄膜样品, 在整个波长范围折射率n随溅射功率的增加先减小后增加,消光系数k则逐渐减少. 薄膜样品的光学常数, 在长波长范围随波长变化较大,在短波长范围变化较小. 讨论了溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数影响的机理. 关键词 ： 溅射功率,  Ge2Sb2Te5薄膜,  光学常数     Key words： 收稿日期: 1900-01-01      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 谢泉 侯立松 干福熹 阮昊 李晶 李进延 44.8K 链接本文: https://www.cjmr.org/CN/Y2000/V14/I5/501 1 M.Chen, K.A.Rubin, Vmarrello, U.G.Gerber, V.B.Jipson, Appl.Phys.Lett., 46(8), 734(1985) 2 N.Yamada, E.Ohno, K.Nishiuchi, N.Akahira, J.Appl.Phys., 69(5), 2849(1991) 3 N.Nobukuni, M.Takashima, T.Ohno, M.Horie, J.Appl.Phys., 78(12), 6980(1995) 4 K.M.Rabe, J.D.Joannopoulos, Phys.Rev.B, 36(6), 3319(1987) 5 J. Gouzalez--Hernandez, E. Lopez-Cruz, M. Yanez-Limon, D. Strand, B. B. Chao ) S. R. Ovshinsky, Solid StateCommunications, 98(9), 593(1995) 6薛松生,范正修,干福熹,光学学报,12(2);274(1992) 7 Hun SED, Tan-Hee JEONG, Jeong-Woo PARK, Cheong YEON, Sang-Jun KIM, Sang--Youl KIM,Jpn.J.Appl.Phys.Part 1, 39(2B)2000 8 Cyril TRAPPE, Bernard BECHEVET, Berangere HYOT, Olaf WINKLER, Stefan FACSKO, HeinrichKURR, Jpn.J.Appl.Phys., Part 1. 39(2B)2000 9 Jin--Hong Kim, Myong R.Kim, Jpn.J.Appl.Phys., Part 1, 37(4B), 2116(1998) [1] 程曙霞; 张爱丽; 何立群; 陈树榆 . 光洁金属表面方向发射率的一种计算方法[J]. 材料研究学报, 2002, 16(3): 317-321. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed