三维封装技术是指将芯片在竖直方向互连的封装技术[1 ] , 是电子产品微型化和多功能化的一个重要趋势. 硅通孔(through silicon via, TSV)是实现芯片竖直互连的主要技术. TSV的主要制作工艺包括[2 ] : (1) 在Si晶圆一侧刻蚀盲孔; (2) 在刻蚀后的孔壁上先后沉积SiO2 绝缘层、阻挡层Ti或者Ta和Cu种子层; (3) 采用电镀法将Cu填充进TSV孔; (4) 退火; (5) 机械抛光去除多余的Cu; (6) 背面晶圆减薄, 使硅通孔电镀填充铜(TSV-Cu)外露, 盲孔变通孔. 制作完成的TSV结构具有Cu/Ta/SiO2 /Si多层界面, TSV-Cu受到Ta/SiO2 层包覆, 这样的Cu材料为“包覆铜”. 研究[3 ,4 ] 表明, 包覆作用影响Cu的扩散机制, 使其表现出不同的力学性能. 另外, Okoro等[5 ] 和Xu等[6 ] 的研究表明, TSV-Cu的晶粒尺寸在100~200 nm之间, 小于一般块体Cu. TSV-Cu的这些特点决定了其力学性能也与一般块体Cu不同. 因此, 研究TSV-Cu的力学性能, 建立描述其力学行为的应力-应变关系, 对于TSV结构的可靠性分析和设计十分重要.
图1 硅通孔(TSV)结构示意图
Fig.1 Schematic of through silicon via (TSV) structure
目前, 已有一些学者对TSV-Cu的力学性能进行了研究. Dixit等[7 ] 通过纳米压痕实验得到TSV-Cu的弹性模量和硬度分别为124 GPa和1.8 GPa; Okoro等[5 ] 得到退火前、退火后和室温时效后TSV-Cu的弹性模量范围为125~170 GPa, 硬度为1.9~2.8 GPa; 李君翊等[8 ] 对在玻璃基底上制作的电镀Cu薄膜试样进行单轴微拉伸实验, 得到的弹性模量为25.4~32.9 GPa, 拉伸强度为574~764 MPa, 该结果与文献[5 ,7 ]报道的弹性模量差别较大, 原因可能是其试样与TSV-Cu的微结构和约束条件有较大差异.
纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系.
1 实验方法
1.1 试样和实验装置
采用BOSCH刻蚀法在直径为200 mm, 厚度为700 μm的硅晶圆上刻蚀盲孔阵列, 在刻蚀后的TSV孔壁上先后化学气相沉积绝缘层(SiO2 ), 物理气相沉积阻挡层(Ta)和种子层(Cu), 最后用电镀法将Cu填充进TSV孔. TSV的详细制作工艺可参见文献[2], 制作完成的TSV结构示意图如图1所示. 其主要尺寸为: 直径为20 μm, 深度为180 μm, 相邻TSV-Cu间间距为260 μm. 试样表面采用粒度递减的抛光液进行机械抛光(最后粒度为0.25 μm).
实验采用G200纳米压痕仪, 系统的位移分辨率为0.01 nm, 载荷分辨率为50 nN. 实验采用Berkovich压头, 在TSV-Cu外露表面靠近圆心位置进行纳米压痕实验, 连续压入8个TSV-Cu试样, 压入深度为500 nm, 加载应变速率为0.05 s-1 .
1.2 实验原理
金属材料的塑性性能常用幂强化模型描述, 其应力-应变( σ - ε ) 关系可表示为:
(1) σ = E ε ( σ ≤ σ y ) R ε n = σ y 1 + E σ y ε p n ( σ > σ y )
式中, E 为弹性模量, R 为强度系数, n 为应变强化指数, σ y 为屈服强度, ε y 为与 σ y 对应的屈服应变, ε p 为总应变中大于 ε y 部分的有效应变.
由上述假设, 金属材料的弹塑性模型可由参数E, σ y 和 n 确定. E可由纳米压痕实验得到, 而 σ y 和n 则需要由特征应力 σ r , 特征应变 ε r 和Dao等[12 ] 基于76种金属材料建立的量纲函数确定. ( σ r , ε r ) 表示 σ - ε 曲线上塑性变形部分的一个代表点[13 ] , 可以通过有限元反演方法确定[11 ] .
依据上述方法, 首先采用纳米压痕实验得到E和硬度H, 并记录载荷-位移曲线; 然后, 采用有限元数值模拟对压痕加载过程进行反演分析得到( σ r , ε r ) , 并通过量纲函数求解n; 最后, 将上述结果代入幂强化模型中, 即得到TSV-Cu的应力-应变关系.
1.3 有限元模型
采用有限元软件Abaqus建立TSV-Cu的轴对称模型, 根据相同的投影面积将Berkovich压头等效为顶角为140.6°圆锥压头[14 ] . 在TSV结构中, Ta层厚度为25~100 nm, SiO2 层厚度为1~2 μm, 均与Si和TSV-Cu的尺寸相差较大, 且实验中的压痕深度足够浅, 压入深度达到最大时的等效压痕直径(2.8 μm)仅约为TSV-Cu直径(20 μm)的1/7. 因此, 在建模过程中忽略Ta层与SiO2 层的影响, 建立的有限元模型如图2所示. 模型中靠近压头尖端部分的单元进行细化, 单元类型为CAX3, 其余部分的单元类型为CAX4R, 共计10106个. 在模型底部施加竖直方向约束, 左侧对称轴上施加轴对称约束, 对压头采用位移控制的加载方式.
2 实验结果与分析
2.1 E和H的确定
采用连续刚度法[15 ] 计算接触刚度, 按照Oliver-Pharr法[16 ,17 ] 计算得到8个TSV-Cu试样的E与H, 计算结果见表1.
图2 TSV-Cu的轴对称有限元模型
Fig.2 Axisymmetric finite element model of TSV-Cu
2.2 σ r 的确定
根据Dao等[12 ] 的研究, 具有相同弹性模量和特征应力、特征应变的金属材料, 均可获得一致的加载阶段载荷-位移模拟曲线. 因此, 在n=0这一理想情况下, 可以通过Antunes等[18 ] 给出的 H , 等效弹性模量 E r 和 σ r 间的关系式估算特征应力: E r H = 0.231 E r σ r + 4.910
然后, 令Possion比为0.3, 将估算的 σ r 与E输入材料属性, 进行有限元计算. 若实验最大载荷 F m a x E X P 与模拟最大载荷 F m a x F E M 相对误差大于0.5%, 则采用下式进行迭代:
(3) σ r i + 1 = σ r i F m a x E X P F m a x F E M
式中, σ r i + 1 和 σ r i 分别为第i+1和i次迭代步的特征应力. 将 σ r i + 1 重新输入材料属性进行有限元计算. 经过大约9次迭代, F m a x F E M 与 F m a x E X P 的相对误差即小于0.5%. 最后得到的 σ r 列于表2.
2.3 n的确定
在锥形压头对韧性材料的压痕实验中, 其载荷-位移曲线如图3所示. 图3中加载曲线与卸载曲线包围部分为压痕塑性功 W p , 卸载曲线与坐标轴包围部分为弹性功 W e 部分, 整个压痕部分的总功 W t 为 W p 与 W e 之和, h m 为加载最大深度, h r 为卸载后的残余深度, F m a x 为最大加载载荷.
在纳米压痕实验中无法精确得到 h r , 因此, 为确定TSV-Cu的n, 将计算得到的加载过程中的 W t 和 W p 代入下式[12 ] :
(4) W p W t = 1.61217 1.13111 - 1 . 74756 - 1.49291 h r h m 2.535334 -
(4) 0.075187 h r h m 1.135826
得到 h r 与 h m 的比值, 再将其与计算得到的 σ r 代入下式[12 ] :
(5) h r h m = 0.010100 n 2 + 0.0017639 n -
即可得到TSV-Cu的n值, 如表2所示.
2.4 ε r 的确定
与 σ r 的计算方法相似, 采用Lee等[19 ] 提出的 E r , σ r 和 ε r 的关系式估算特征应变:
(6) ε r = e x p - 3.91 + 166.7 / E r / σ r + 177.3
将已确定的 σ r , n与估算的 ε r 输入材料属性, 进行有限元计算. 若 F m a x E X P 与 F m a x F E M 相对误差大于0.5%, 则采用下式进行迭代:
(7) ε r ( i + 1 ) = ε r ( i ) F m a x F E M F m a x E X P
式中, ε r i + 1 和 ε r i 分别为第i+1和i次迭代步的特征应变. 经过大约9次迭代, F m a x F E M 与 F m a x E X P 的相对误差即小于0.5%. 最后得到的 ε r 值如表2所示.
图3 典型的载荷-位移曲线
Fig.3 A typical load- displacement curve ( We — elastic work during unloading, Fmax — maximum indentation load)
2.5 应力-应变关系的确定
将已得到的 E , n和 σ r , ε r 代入式(1), 即可确定金属材料的 σ y . 整个计算过程中的数据结果如表2所示.
由幂强化模型确定的TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系为: σ = 155470 ε 47.91 ( 1 + 3245.04 ε p ) 0.4892 σ ≤ 47.91 M P a σ > 47.91 M P a
应力-应变曲线如图4所示.
由上述测试结果可知, TSV-Cu外露端部的H为2.47 GPa, 比一般块体Cu的硬度(1.0~1.2 GPa)要高. 考虑到TSV-Cu具有更小的晶粒尺寸[5 ,6 ] 以及Hall-Petch公式, 上述结果是合理的. 测得的E为155.47 GPa, 明显高于文献[20]报道的电镀Cu的弹性模量(73 GPa)和一般块体Cu的弹性模量(130 GPa), 但与文献[21]报道的电镀Cu的弹性模量(158.2 GPa)基本一致, 也在文献[5]报道的TSV-Cu的弹性模量的范围之内(125~170 GPa). 得到的TSV-Cu的平均屈服强度为47.91 MPa, 略高于文献[22]报道的退火后电镀Cu的屈服强度(33.3 MPa). n的计算结果(0.4892)与文献[23]使用的应变强化指数(0.54)相近. 由量纲函数求得的深度比 h r / h m 间的偏差不超过1%, 有限元反演分析得到的 σ r 间以及 ε r 间的偏差不超过8%. 然而, n之间的偏差较大, 约15%; 屈服强度间也存在较大偏差. 其原因一方面可能是计算过程中的误差传递; 另一方面可能是由于TSV-Cu样本的个体差异, 如靠近压头附近TSV-Cu的晶粒尺寸差异[5 ,6 ] 和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等.
图4 TSV-Cu的应力-应变曲线
Fig.4 Stress-strain curve for TSV-Cu ( σ = σ y ( 1 + E σ y ε p ) n , E=155470 MPa, σy =47.91 MPa, n=0.4892)
3 结论
(1) 利用纳米压痕实验对TSV-Cu的力学性能进行测量, 结合有限元反演分析和量纲函数, 得到了TSV-Cu应力-应变关系的幂强化模型.
(2) 测得TSV-Cu的弹性模量、应变强化指数与屈服强度分别为155.47 GPa, 0.4892和47.91 MPa.
参考文献
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... 对在玻璃基底上制作的电镀Cu薄膜试样进行单轴微拉伸实验, 得到的弹性模量为25.4~32.9 GPa, 拉伸强度为574~764 MPa, 该结果与文献[5 ,7 ]报道的弹性模量差别较大, 原因可能是其试样与TSV-Cu的微结构和约束条件有较大差异. ...
... 由上述测试结果可知, TSV-Cu外露端部的H为2.47 GPa, 比一般块体Cu的硬度(1.0~1.2 GPa)要高. 考虑到TSV-Cu具有更小的晶粒尺寸[5 ,6 ] 以及Hall-Petch公式, 上述结果是合理的. 测得的E为155.47 GPa, 明显高于文献[20]报道的电镀Cu的弹性模量(73 GPa)和一般块体Cu的弹性模量(130 GPa), 但与文献[21]报道的电镀Cu的弹性模量(158.2 GPa)基本一致, 也在文献[5]报道的TSV-Cu的弹性模量的范围之内(125~170 GPa). 得到的TSV-Cu的平均屈服强度为47.91 MPa, 略高于文献[22]报道的退火后电镀Cu的屈服强度(33.3 MPa). n的计算结果(0.4892)与文献[23]使用的应变强化指数(0.54)相近. 由量纲函数求得的深度比 h r / h m 间的偏差不超过1%, 有限元反演分析得到的 σ r 间以及 ε r 间的偏差不超过8%. 然而, n之间的偏差较大, 约15%; 屈服强度间也存在较大偏差. 其原因一方面可能是计算过程中的误差传递; 另一方面可能是由于TSV-Cu样本的个体差异, 如靠近压头附近TSV-Cu的晶粒尺寸差异[5 ,6 ] 和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等. ...
... [5 ,6 ]和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等. ...
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2007
... 三维封装技术是指将芯片在竖直方向互连的封装技术[1 ] , 是电子产品微型化和多功能化的一个重要趋势. 硅通孔(through silicon via, TSV)是实现芯片竖直互连的主要技术. TSV的主要制作工艺包括[2 ] : (1) 在Si晶圆一侧刻蚀盲孔; (2) 在刻蚀后的孔壁上先后沉积SiO2 绝缘层、阻挡层Ti或者Ta和Cu种子层; (3) 采用电镀法将Cu填充进TSV孔; (4) 退火; (5) 机械抛光去除多余的Cu; (6) 背面晶圆减薄, 使硅通孔电镀填充铜(TSV-Cu)外露, 盲孔变通孔. 制作完成的TSV结构具有Cu/Ta/SiO2 /Si多层界面, TSV-Cu受到Ta/SiO2 层包覆, 这样的Cu材料为“包覆铜”. 研究[3 ,4 ] 表明, 包覆作用影响Cu的扩散机制, 使其表现出不同的力学性能. 另外, Okoro等[5 ] 和Xu等[6 ] 的研究表明, TSV-Cu的晶粒尺寸在100~200 nm之间, 小于一般块体Cu. TSV-Cu的这些特点决定了其力学性能也与一般块体Cu不同. 因此, 研究TSV-Cu的力学性能, 建立描述其力学行为的应力-应变关系, 对于TSV结构的可靠性分析和设计十分重要. ...
... 由上述测试结果可知, TSV-Cu外露端部的H为2.47 GPa, 比一般块体Cu的硬度(1.0~1.2 GPa)要高. 考虑到TSV-Cu具有更小的晶粒尺寸[5 ,6 ] 以及Hall-Petch公式, 上述结果是合理的. 测得的E为155.47 GPa, 明显高于文献[20]报道的电镀Cu的弹性模量(73 GPa)和一般块体Cu的弹性模量(130 GPa), 但与文献[21]报道的电镀Cu的弹性模量(158.2 GPa)基本一致, 也在文献[5]报道的TSV-Cu的弹性模量的范围之内(125~170 GPa). 得到的TSV-Cu的平均屈服强度为47.91 MPa, 略高于文献[22]报道的退火后电镀Cu的屈服强度(33.3 MPa). n的计算结果(0.4892)与文献[23]使用的应变强化指数(0.54)相近. 由量纲函数求得的深度比 h r / h m 间的偏差不超过1%, 有限元反演分析得到的 σ r 间以及 ε r 间的偏差不超过8%. 然而, n之间的偏差较大, 约15%; 屈服强度间也存在较大偏差. 其原因一方面可能是计算过程中的误差传递; 另一方面可能是由于TSV-Cu样本的个体差异, 如靠近压头附近TSV-Cu的晶粒尺寸差异[5 ,6 ] 和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等. ...
... ,6 ]和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等. ...
2
2007
... 目前, 已有一些学者对TSV-Cu的力学性能进行了研究. Dixit等[7 ] 通过纳米压痕实验得到TSV-Cu的弹性模量和硬度分别为124 GPa和1.8 GPa; Okoro等[5 ] 得到退火前、退火后和室温时效后TSV-Cu的弹性模量范围为125~170 GPa, 硬度为1.9~2.8 GPa; 李君翊等[8 ] 对在玻璃基底上制作的电镀Cu薄膜试样进行单轴微拉伸实验, 得到的弹性模量为25.4~32.9 GPa, 拉伸强度为574~764 MPa, 该结果与文献[5 ,7 ]报道的弹性模量差别较大, 原因可能是其试样与TSV-Cu的微结构和约束条件有较大差异. ...
... ,7 ]报道的弹性模量差别较大, 原因可能是其试样与TSV-Cu的微结构和约束条件有较大差异. ...
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2012
... 目前, 已有一些学者对TSV-Cu的力学性能进行了研究. Dixit等[7 ] 通过纳米压痕实验得到TSV-Cu的弹性模量和硬度分别为124 GPa和1.8 GPa; Okoro等[5 ] 得到退火前、退火后和室温时效后TSV-Cu的弹性模量范围为125~170 GPa, 硬度为1.9~2.8 GPa; 李君翊等[8 ] 对在玻璃基底上制作的电镀Cu薄膜试样进行单轴微拉伸实验, 得到的弹性模量为25.4~32.9 GPa, 拉伸强度为574~764 MPa, 该结果与文献[5 ,7 ]报道的弹性模量差别较大, 原因可能是其试样与TSV-Cu的微结构和约束条件有较大差异. ...
1
2012
... 目前, 已有一些学者对TSV-Cu的力学性能进行了研究. Dixit等[7 ] 通过纳米压痕实验得到TSV-Cu的弹性模量和硬度分别为124 GPa和1.8 GPa; Okoro等[5 ] 得到退火前、退火后和室温时效后TSV-Cu的弹性模量范围为125~170 GPa, 硬度为1.9~2.8 GPa; 李君翊等[8 ] 对在玻璃基底上制作的电镀Cu薄膜试样进行单轴微拉伸实验, 得到的弹性模量为25.4~32.9 GPa, 拉伸强度为574~764 MPa, 该结果与文献[5 ,7 ]报道的弹性模量差别较大, 原因可能是其试样与TSV-Cu的微结构和约束条件有较大差异. ...
1
2010
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
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2010
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
1
2005
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
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2005
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
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2011
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
... 由上述假设, 金属材料的弹塑性模型可由参数E, σ y 和 n 确定. E可由纳米压痕实验得到, 而 σ y 和n 则需要由特征应力 σ r , 特征应变 ε r 和Dao等[12 ] 基于76种金属材料建立的量纲函数确定. ( σ r , ε r ) 表示 σ - ε 曲线上塑性变形部分的一个代表点[13 ] , 可以通过有限元反演方法确定[11 ] . ...
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2011
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
... 由上述假设, 金属材料的弹塑性模型可由参数E, σ y 和 n 确定. E可由纳米压痕实验得到, 而 σ y 和n 则需要由特征应力 σ r , 特征应变 ε r 和Dao等[12 ] 基于76种金属材料建立的量纲函数确定. ( σ r , ε r ) 表示 σ - ε 曲线上塑性变形部分的一个代表点[13 ] , 可以通过有限元反演方法确定[11 ] . ...
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2001
... 纳米压痕技术是一种有效评估块状与薄膜材料力学性能的方法[9 ,10 ] . 本工作通过对真实的TSV-Cu试样进行纳米压痕实验, 采用马永等[11 ] 提出的反演方法, 将有限元数值模拟结果与实验测试结果作对比, 并结合Dao等[12 ] 建立的量纲函数, 确定TSV-Cu的弹塑性应力-应变关系. ...
... 由上述假设, 金属材料的弹塑性模型可由参数E, σ y 和 n 确定. E可由纳米压痕实验得到, 而 σ y 和n 则需要由特征应力 σ r , 特征应变 ε r 和Dao等[12 ] 基于76种金属材料建立的量纲函数确定. ( σ r , ε r ) 表示 σ - ε 曲线上塑性变形部分的一个代表点[13 ] , 可以通过有限元反演方法确定[11 ] . ...
... 根据Dao等[12 ] 的研究, 具有相同弹性模量和特征应力、特征应变的金属材料, 均可获得一致的加载阶段载荷-位移模拟曲线. 因此, 在n=0这一理想情况下, 可以通过Antunes等[18 ] 给出的 H , 等效弹性模量 E r 和 σ r 间的关系式估算特征应力: E r H = 0.231 E r σ r + 4.910 ...
... 在纳米压痕实验中无法精确得到 h r , 因此, 为确定TSV-Cu的n, 将计算得到的加载过程中的 W t 和 W p 代入下式[12 ] : ...
... 得到 h r 与 h m 的比值, 再将其与计算得到的 σ r 代入下式[12 ] : ...
1
1951
... 由上述假设, 金属材料的弹塑性模型可由参数E, σ y 和 n 确定. E可由纳米压痕实验得到, 而 σ y 和n 则需要由特征应力 σ r , 特征应变 ε r 和Dao等[12 ] 基于76种金属材料建立的量纲函数确定. ( σ r , ε r ) 表示 σ - ε 曲线上塑性变形部分的一个代表点[13 ] , 可以通过有限元反演方法确定[11 ] . ...
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2004
... 采用有限元软件Abaqus建立TSV-Cu的轴对称模型, 根据相同的投影面积将Berkovich压头等效为顶角为140.6°圆锥压头[14 ] . 在TSV结构中, Ta层厚度为25~100 nm, SiO2 层厚度为1~2 μm, 均与Si和TSV-Cu的尺寸相差较大, 且实验中的压痕深度足够浅, 压入深度达到最大时的等效压痕直径(2.8 μm)仅约为TSV-Cu直径(20 μm)的1/7. 因此, 在建模过程中忽略Ta层与SiO2 层的影响, 建立的有限元模型如图2所示. 模型中靠近压头尖端部分的单元进行细化, 单元类型为CAX3, 其余部分的单元类型为CAX4R, 共计10106个. 在模型底部施加竖直方向约束, 左侧对称轴上施加轴对称约束, 对压头采用位移控制的加载方式. ...
1
1987
... 采用连续刚度法[15 ] 计算接触刚度, 按照Oliver-Pharr法[16 ,17 ] 计算得到8个TSV-Cu试样的E与H, 计算结果见表1. ...
1
1992
... 采用连续刚度法[15 ] 计算接触刚度, 按照Oliver-Pharr法[16 ,17 ] 计算得到8个TSV-Cu试样的E与H, 计算结果见表1. ...
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1992
... 采用连续刚度法[15 ] 计算接触刚度, 按照Oliver-Pharr法[16 ,17 ] 计算得到8个TSV-Cu试样的E与H, 计算结果见表1. ...
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2007
... 根据Dao等[12 ] 的研究, 具有相同弹性模量和特征应力、特征应变的金属材料, 均可获得一致的加载阶段载荷-位移模拟曲线. 因此, 在n=0这一理想情况下, 可以通过Antunes等[18 ] 给出的 H , 等效弹性模量 E r 和 σ r 间的关系式估算特征应力: E r H = 0.231 E r σ r + 4.910 ...
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2009
... 与 σ r 的计算方法相似, 采用Lee等[19 ] 提出的 E r , σ r 和 ε r 的关系式估算特征应变: ...
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2012
... 由上述测试结果可知, TSV-Cu外露端部的H为2.47 GPa, 比一般块体Cu的硬度(1.0~1.2 GPa)要高. 考虑到TSV-Cu具有更小的晶粒尺寸[5 ,6 ] 以及Hall-Petch公式, 上述结果是合理的. 测得的E为155.47 GPa, 明显高于文献[20]报道的电镀Cu的弹性模量(73 GPa)和一般块体Cu的弹性模量(130 GPa), 但与文献[21]报道的电镀Cu的弹性模量(158.2 GPa)基本一致, 也在文献[5]报道的TSV-Cu的弹性模量的范围之内(125~170 GPa). 得到的TSV-Cu的平均屈服强度为47.91 MPa, 略高于文献[22]报道的退火后电镀Cu的屈服强度(33.3 MPa). n的计算结果(0.4892)与文献[23]使用的应变强化指数(0.54)相近. 由量纲函数求得的深度比 h r / h m 间的偏差不超过1%, 有限元反演分析得到的 σ r 间以及 ε r 间的偏差不超过8%. 然而, n之间的偏差较大, 约15%; 屈服强度间也存在较大偏差. 其原因一方面可能是计算过程中的误差传递; 另一方面可能是由于TSV-Cu样本的个体差异, 如靠近压头附近TSV-Cu的晶粒尺寸差异[5 ,6 ] 和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等. ...
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2011
... 由上述测试结果可知, TSV-Cu外露端部的H为2.47 GPa, 比一般块体Cu的硬度(1.0~1.2 GPa)要高. 考虑到TSV-Cu具有更小的晶粒尺寸[5 ,6 ] 以及Hall-Petch公式, 上述结果是合理的. 测得的E为155.47 GPa, 明显高于文献[20]报道的电镀Cu的弹性模量(73 GPa)和一般块体Cu的弹性模量(130 GPa), 但与文献[21]报道的电镀Cu的弹性模量(158.2 GPa)基本一致, 也在文献[5]报道的TSV-Cu的弹性模量的范围之内(125~170 GPa). 得到的TSV-Cu的平均屈服强度为47.91 MPa, 略高于文献[22]报道的退火后电镀Cu的屈服强度(33.3 MPa). n的计算结果(0.4892)与文献[23]使用的应变强化指数(0.54)相近. 由量纲函数求得的深度比 h r / h m 间的偏差不超过1%, 有限元反演分析得到的 σ r 间以及 ε r 间的偏差不超过8%. 然而, n之间的偏差较大, 约15%; 屈服强度间也存在较大偏差. 其原因一方面可能是计算过程中的误差传递; 另一方面可能是由于TSV-Cu样本的个体差异, 如靠近压头附近TSV-Cu的晶粒尺寸差异[5 ,6 ] 和缺陷分布差异[24 ,25 ] 等. ...